CompanyDocumentnumber:WUUT-WUUY-WBBGB-BWYTT-1982GT超纯水系统工艺
流程
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图图3常用的一级RO+二级EDI+MB电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高(小于1000μs/cm),
要求
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产水电阻率18~Ω·cm的超纯水系统图4常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统图5常用的一级RO+二级EDI电子+MB电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~Ω·cm的超纯水系统图6常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统图7是常用的一级EDI全系统组成图。图7常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS<500ppm时,要求产水电阻率18~Ω·cm的纯水系统图8常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS<500ppm时,要求产水电阻率15~Ω·cm的的纯水系统