1.什么叫真空？真空特点是什么？2.真空区域的划分是怎样的？其物理基础是什么？3.简述气体和蒸汽的区别。4.何为物理吸附？何为化学吸附？5.说明机械泵的抽气原理。影响机械泵极限真空的因素有哪些？6.说明扩散泵的结构和原理。影响扩散泵极限真空的因素有哪些？7.说明分子泵的工作原理。8.说明离子泵的结构、气体放电的过程、排气的原理。9.热导真空计测量真空的基础是什么？10.说明电离真空计的结构和原理。影响该真空计的测量下限是什么？如何改善测量下限？11.与电离真空计比较，BA规的结构有哪些改进？为什么能测量更低的真空压强？12.简述真空系统漏气的静态判断的
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。13.什么叫压力检漏？试述了卤素检漏法的原理。14.叙述氦质谱检漏仪的原理、仪器结构、方法。15.画出电磁阀的结构，说明其工作原理及其用法。16.说明图1的真空系统的使用规程。17.写出真空系统的抽气方程，其中各量的意义。18.多根管道串联而成的静态真空系统，写出其流导、抽速以及压强的方程。说明其意义。19.说明真空蒸发镀膜的原理。20.对电阻蒸发源的材料有何要求?21.高频感应加热镀膜是什么样的结构？它有何应用价值？22.为什么e型枪比直枪优越？23.分子束外延的机理是什么？有何特点？24.说明直流辉光放电的电流电压特性。25.射频辉光放电的特点以及原因。26.说明射频溅射为什么能溅射绝缘材料？27.说明溅射离子的能量对成膜速率的影响。28.离子入射到材料
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面会产生哪些效应？成膜主要靠哪些部分？29.说明磁控溅射的原理和特点。30.为什么反应溅射镀膜比反应蒸发镀膜效果好？31.说明离子镀的原理与特点。32.离子镀膜的成膜条件是什么？33.说明电弧离子镀的结构原理和特点。34.说明化学气相沉积的主要过程。35.说明化学气相沉积的特点。36.任何CVD所用的反应体系都必须满足三个条件是什么？37.说明低压化学气相沉积设备、优点。38.说明PECVD的原理与优点。39.说明MOVCD的特点。40.说明低温化学气相沉积薄膜的意义。
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