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降压型DC-DC转换器自调节型斜坡补偿电路设计

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降压型DC-DC转换器自调节型斜坡补偿电路设计 274 微电子学与计算机 2005年第22卷第3期 降压型 DC—DC转换器自调节型斜坡补偿电路设计 李演明 来新泉 王红义 (西安电子科技大学 电路 CAD研究所 ,陕西 西安 710071) 摘 要 :本文给出一种用于降压型 DC—I)C转换器 的自调节型斜坡补偿电路。文章从斜坡补偿的基本原理 出发 , 根据 电流环稳定的条件.设计出了一种补偿量随输入输出电压 自动调节的斜坡补偿 电路。该斜坡补偿电路 的优化 设计避免了因过补偿而带来的系统瞬态响应慢和带载能力低等不良影响。该电路基于Sams...

降压型DC-DC转换器自调节型斜坡补偿电路设计
274 微电子学与计算机 2005年第22卷第3期 降压型 DC—DC转换器自调节型斜坡补偿电路设计 李演明 来新泉 王红义 (西安电子科技大学 电路 CAD研究所 ,陕西 西安 710071) 摘 要 :本文给出一种用于降压型 DC—I)C转换器 的自调节型斜坡补偿电路。文章从斜坡补偿的基本原理 出发 , 根据 电流环稳定的条件.设计出了一种补偿量随输入输出电压 自动调节的斜坡补偿 电路。该斜坡补偿电路 的优化 设计避免了因过补偿而带来的系统瞬态响应慢和带载能力低等不良影响。该电路基于Samsung BCH4工艺设计. 经 Hspice仿真验证达到设计 目标。 关键词 :斜坡补偿,降压型,DC—DC,自调节 中图法分类号:TN432 文献标识码 :A 文章编号 :1000-718O(2005)03—274-03 Design of Self-Regulation Slope Compensation Circuit for 、 Buck DC..DC Converter LI Yah—ming,LAI Xin—quan,WANG Hong-yi (Institute of Electronic CAD,Xidian University,Xi’an 710071 China) Abstract: This paper gives a design of serf-regulation slope compensation circuit applied to buck DC-DC converters. On the basis of the root theory of slope compensation and the stability of current loop,a self-regulation slope compensa· tion circuit is designed,whose compensation amount varies with input and output voltages.The slope compensation cir- cuit improves the output current capability and transient response speed of the system. This circuit is design ed on the basis of Saw_sung BCH4 process,and its performances have been verified by Hspiee simulation. Key words:Slope compensation,Buck,DC-DC,Self-regulation 1 引言 峰值电流模控制技术 以其优越的输入电压和 系统响应特性。极大地推动了DC—DC转换器的发 展【1]。但是。由于在占空比大于50%时电流环的不稳 定性,使得这一技术受到了限制。为此有人提出了 斜坡电流补偿技术。使电流环的不稳定性问 快递公司问题件快递公司问题件货款处理关于圆的周长面积重点题型关于解方程组的题及答案关于南海问题 得到 了改善l 。 已有的斜坡电流补偿技术从 方法 快递客服问题件处理详细方法山木方法pdf计算方法pdf华与华方法下载八字理论方法下载 上看,主要可 以分为:一次线性补偿,分段线性补偿,非线性补 偿。但是它们的补偿效果并不理想l 1。本文从坡补偿 基本原理出发。吸取了已有斜坡补偿技术的经验, 提出了一种用于降压型 DC—DC转换器的自调节型 斜坡补偿电路。该电路根据输入输出电压自动调节 补偿量。避免了过补偿所带来的系统瞬态响应慢以 及带载能力低等不良影响l1.3,41。 2 补偿原理 分析 定性数据统计分析pdf销售业绩分析模板建筑结构震害分析销售进度分析表京东商城竞争战略分析 法 2.1 补偿基本原理 本文提出的斜坡补偿电路适用于降压型 DC一 收稿 日期:2004—09—1O DC转换器。以下对给出的buck型峰值电流模控制 DC—DC转换器的系统结构进行分析【】 。 从图 1的系统结构中可以看到。峰值电流比较 器(CC)的反相端输入信号为电感电流采样信号,同 相端输入信号为误差放大器(EA)的输出与斜坡补 偿(Slope)信号相减后的信号。斜坡补偿电路作为电 流模控制 DC—DC转换器中不可缺少的一部分 ,有 其存在的必然性。以下将从电感电流特性中作直观 分析。 图l buck型峰值电流模控制DC—Dc转换器系统结构 维普资讯 http://www.cqvip.com 2005年第22卷第3期 微电子学与计算机 275 在占空比D<50%的情况下,如果电感电流受到 一 个扰动量 △,,从图2的波形上我们可以看到,最 终扰动量被消除了,说明系统是稳定的【】1。 图2电感电流受到扰动的情况(D<50%) 如图 3所示 ,在占空比 D>50%的情况下 ,电感 电流中引入的扰动量就会被放大,说明系统是不稳 定的。 图3电感电流受到扰动的情况(D>50%) 如果引入一个斜率为一17/,的补偿电流,我们可 以在图4中看到,最终扰动分量被消除了。 图4引入补偿电流后的情况( l>50%) 以上从直观的角度得出了定性 的结论 :通过引 入斜坡电流,消除了 D>50%时系统 的不稳定。以下 给出定量分析结果。 如图4所示,假设电感电流上升斜率为m。,下 降斜率为 ,补偿电流斜率为一m,电感电流受到的 扰动分量为△,0,经一周期 后变为△,。。系统在没 有引入补偿电流时有 △,。= (1) 引入补偿电流之后 All=一At。 m m 2 ,+ + m ra 一 (2) 系统稳定的条件是:A/。- 1 mI+m9 (4) 由图2知: D·T·m。=一(1-O)· ·T (5) 推出: mJ=(1一古) (6) 将式(6)代人式(4)得: m>(方一1 (7) 对于 Buck型 DC—DC(~II图 1所示)来说 ,忽略 开关导通压降,则有[71: : — Vi — n- r Vout ml (8) =———— —一 I6 J rrt2=一— Vo 广 ut (9) 一—了一 L Vout=Vin·D (10) 将式(9)与式(10)代入式(7)得: 1 m>(Vout-O.5 Vin)辛 (11) 从上述推导中得出重要的结论 :只要斜坡补偿 电流的斜率m满足公式(11),系统就可以稳定工作。 2.2 自调节型斜坡补偿原理 由 2.1节所作的斜坡补偿基本原理推导得出 , 使 buck型 DC—DC转换器系统稳定 的斜坡补偿电 流斜率 /'n与输入输出电压之间的关系(见公式(11))。 利用 MOS管工作在线性 区的电阻特性[61,构造 出如图5所示斜坡电流产生电路,得到的斜坡电流 Islope满足公式(11)的关系。下面详细分析该电路的 工作原理。 图5 自蒯可型斜坡电流严生 电蹯 运放 Ampl、Mo以及 电阻 Ro构电压跟随器 ,于 是可以认为: ,J= (12) = (13) 设 Rl=尺2,则 : = (14) ,l: 二 (15)R Jr_ n 、 , 维普资讯 http://www.cqvip.com 276 微电子学与计算机 2005年第 22卷第 3期 Amp2与 ,的连接关系使得 工作在深线性 区,所 以可以得出 的导通 电阻为 : 尺姗 = = (16) 因为 与 的结构完全相同,所以有 RDSM2=RDSMI=揣out (17) r ⋯r m 当将斜坡电压 加在 源漏两端时可以得 到斜坡电流 = V cap tom = (18) 一尺 一 r·尺0 u, 由式(18)的结果可以看出:斜坡补偿电流k 的 斜率与( 一0.5 成线性关系,通过调节 与尺。 就可以得到斜率满足式(11)的斜坡补偿电流。且该 补偿电流随输入输出电压 自动调节 .达到 自调节型 补偿的 目的。 需要注意的是 ,电路 中引入 了一个 比较器 Comp,它的作用是:当输出电压低于输入电压的一 半时,屏蔽放大器Ampl和Amp2工作,以保证电流 不会经 尺。反相流到 。同时 , =0,所以 =0,不 提供斜坡补偿电流输出。因为占空比D=鲁 ,这意 味着在 占空比D<50%的情况下.该斜坡补偿电路不 提供斜坡补偿电流。这符合2.1节的推导得出的结 论:在占空比D<50%的情况下系统是稳定的.不需 要斜坡补偿。 然而,为保证补偿的可靠性.我们必须考虑补 偿余度。通过调节尺,与尺:的比值就可以将补偿起 始点设置在 D<50%的适当位置。 3 完整电路分析 通过 2.2节对图 5的斜坡电流产生电路结构的 分析 .得到该 电路结构建立 了斜坡补偿量与输入输 出电压之间的关系.能够达到自动调节的补偿效 果。下面对给出的该斜坡补偿电路完整结构进行分 析,如图6所示。斜坡信号来自于振荡器(osc)充放 电电容两端电压 V 同,它是与振荡器同频的三角波 信号。 经过Q 、Q。处理后加在 漏源两端产生 斜坡电流。同时 ,图 5中的尺 与 尺:电阻分别用 图6 自调节型斜坡补偿电路完整结构 与 两个工作在饱和区的MOS管代替,以解决因 大电阻而带来的版图面积增大的问题。具体分析如 下。 因为: VBEQt—VBeqo (20) 所以近似有: = (21) 设: =÷V (22) 忽略 ,则 — 结合式(18)有: ,,一 :( 堂二 : 一 ·尺0 = R (23) 一 · 0 , 设 与 的宽长 比为 1:1,所 以 、 电流 是 1:1的镜像关系 ,故: Vstom= R = Ro"R (24) l — · t , 式(24)得 出的结果与所期望 的结果是一致的。 对于工作在饱和区的MOS管 与 来说,有[61: c倒 ( 一V聊)z :知 ( 一V聊)z (25) 选取 =导’贝lJ = (26) 通过调节 与 的宽长 比就可以设置 ,的 电压。因此,考虑一定的补偿余度,可以将补偿起始 点设置在占空比D<50%的适当位置。下面给出仿真 验证波形。 1.O O.S ().() Transient Response : Vo :I.8V/Vslope ttm e 图7 斜坡补偿电压仿真波形 4 结束语 文章从斜坡补偿的基本原理出发 .设计出了一 种适用于降压型 DC—DC转换器的自调节型斜坡补 偿电路。通过利用 MOS管工作在线性区的电阻特 性 .建立了输入输 出电压与斜坡补偿电流之间的关 系 .实现了斜坡补偿量的 自动调节 ,从而优化 了系 统性能。最后通过 了仿真验证。 (下转第2,8O页) 维普资讯 http://www.cqvip.com 280 微电子学与计算机 2005年第22卷第 3期 出,随着设计线宽的变化,模拟结果比较好地吻合 了实验结果。 为了验证曝光剂量对抗蚀剂显影轮廓的影响. 设计 了线宽为 100nm,line:space=l:1的图形 .实际 线宽为 170nm和220nm,曝光条件为:Si衬底胶厚 425nm,JOEL5000电子束曝光系统,束流 5nA,步距 12.5nm,在图 4中曝光剂量为 1001xc/amz.在图 5 中,曝光剂量为 2001xc/am ,实验图形和模拟结果同 样很吻合。 4O0 200 O 0 500 1000 1500 2000 X axistitle 图5 5 结束语 本文基于计算机领域模拟复杂系统动态变化 的元胞 自动机方法 ,建立了实用的显影模型。选用 了合适的显影速率和参数.模拟出 ZEP520正性电 子抗蚀剂在不同设计线宽和曝光剂量条件下的显 影轮廓 ,并用实验进行了验证。 参考文献 A W Burks.Von Neumann’s Self-Reproducing Automa. ta_In A W Burks.editor,Essays on Cellular Automata,Uni. versity of Ilinos Press.1970:3~64. Batty M,Couclelis H,Eichen M.Urban Sysytem as Ce1. 1ular Automata.Environment and Planning B:Planning and Design,1997,24(2):159-305. S Wolfram.Cellular Automata and Complexity(Addison Wesley,Reading,MA,1994. 赖进贵.细胞 自动机与地理资讯系统结合之初探研究. 中国地理学会会刊.2000(28):109~126. THPChan g.Proximity Effect in Electron——Beam 1.1thogra. phy J.Vac.Sci.Techno1.,1995,12(6):1271. A R Neureutller,D F Kyser and C H Ting.Electron—beam Lithography Resist Profile Simulation. IEEE Trans.Elec. tron Devices,1979,ED一26(4):686. F Dil1.Optical Lithography.IEEE Trans.on Electron Devices 1975.22:440-444. K Kurihara,K 1wadate,H Nam atsu,et a1.An Electron Beam Nanolithography System and its Application to Si Nanofab· rication.Jpn.J.App1.Phyys..1995,34:6940-6946. D J Resnick,W J Dauksher,D Mancini.et a1.High Resolu. tion Templates for Step and Flash Imprint Lithography.J. Microlith.,Microfab.,Microsyst.,2002,1(3):284-289. 李 泠 男 ,硕士研究生。研究方向为微电子工艺及其计算 机模拟技术 。 (上接第276页) 参考文献 【1】 C K Tse,Y M Laj,M H L Chow.Control of bifurcation in current—programmed DC-DC conveners.an alternative viewpoint of ramp compensation.Circuits,System and Sig· nal Processing,USA,November—December 2001,20(6): 695~707. 【2】 Jeffrey Hwang,Alland Chee,Wing—Hung Ki.New uni· versa]control methods for power factor correction and DC to DC conve~er applications. Applied Power Electronics Conference and Exposition. 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Alan B Grebene.Bipolar and MOS Analog Integrated Circuit Design .John Wiley& Sons。Inc.1984:52 1-523. 556~564. 李演明 男 ,(1979一),硕士研究生。主要从事专用集成电路 设计及其相关理论的研究。 Ⅲ 维普资讯 http://www.cqvip.com
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