挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数
挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数
属于磨料流动加工过程，不但可以进行光整加工还可以去毛刺，效果非常好。
一、基本原理
将含有磨料的油泥状黏弹性高分子介质组成的黏弹性抛光剂，用一定的压力挤过被加工表面，实现磨粒对表面的微切削加工，去除表面微观不平的工艺方法。是一种微磨削或刮削的工艺方法。
二、特点
1、适用范围广；
2、抛光效果好；
如线切割表面，抛光后尺寸
精度达0.01-0.0025mm,表面
粗糙度达0.04-0.05μm。
3、抛光效率高。
抛光余量微0...
挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数
属于磨料流动加工过程，不但可以进行光整加工还可以去毛刺，效果非常好。
一、基本原理
将含有磨料的油泥状黏弹性高分子介质组成的黏弹性抛光剂，用一定的压力挤过被加工表面，实现磨粒对表面的微切削加工，去除表面微观不平的工艺方法。是一种微磨削或刮削的工艺方法。
二、特点
1、适用范围广；
2、抛光效果好；
如线切割表面，抛光后尺寸
精度达0.01-0.0025mm,表面
粗糙度达0.04-0.05μm。
3、抛光效率高。
抛光余量微0.01-0.1mm则
需要几分钟或十几分钟。
三、黏弹性研磨抛光剂和设备
这种抛光剂称为黏性磨料
抛光机多为立式对置活塞式，通过两活塞的运动使抛光剂上下流动。
挤压研磨抛光的夹具必须具备以下作用：
①定位和夹紧作用；
②容纳和引导研磨抛光剂通过零件需要抛光的部位；
③阻止和保证研磨抛光剂不流过不需要加工的部位。
必须根据加工零件的形状和尺寸、研磨抛光的需要合理进
行研磨夹具的设计。
如图7－16为常用夹具形式。
四、工艺参数
（1）磨料的种类、粒度和研磨抛光剂中的含量
根据加工零件材料的类型和要求决定。
（2）研磨抛光剂的黏度
完全是抛光采用高黏度，有去毛刺或倒圆性质的选用中
等黏度的研磨抛光剂。
（3）挤压压力
根据机床能力，有低到高，一般机床能力为700-2000kPa
（4）速度或流量
在机床范围内选取，一般为7－225L/min
参考资料：http://www.momo35.com/qiye/index.html
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