制绒基本知识现在生产中常采用化学腐蚀的方法对单多晶硅片原料进行绒面的制作（最主要的一个因素是因为成本低，工艺简单，较易为企业所接受，其它如机械刻槽，反应离子刻蚀，光刻技术等成本都很高，难以接受作为工业化的生产）。在单晶硅片中，常利用低浓度（1~3%）的氢氧化钠碱液对单晶硅不同晶面的腐蚀速率的差异在硅片
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面制作“金字塔”式的绒面结构，这是由于低浓度碱液在（100）晶面上的腐蚀速率远远大于其在（111）晶面上的腐蚀速率所引起的（最大可超过100倍）。而由于碱液在对硅片表面的腐蚀过程中会释放出氢气，在表面张力的作用，氢气会吸附于硅片表面难以快速脱离，这会严重影响绒面制作的顺利进行，所以必须添加有表面湿润作用的IPA（异丙醇）用以降低氢气在硅片表面的吸附能力。而高浓度的氢氧化钠（25%左右）常用来对单晶硅表面进行去损伤处理，单晶硅的损伤层是硅片在切割过程中产生的。损伤的程度会左右绒面制作的效果，所以必须去除，去除的量根据损伤层的大小，绒面制作时的刻蚀量决定。单晶制绒及去损伤都需要加热恒温（80~85℃）。碱液可以用氢氧化钾等代替（绒面制作效果相差不大），IPA可以用乙醇代替（控制以及效果比不上IPA，而IPA成本较高）。在能够保证绒面制作以及不引入杂质的前提下，亦可以采用其它的有表面湿润作用的物质代替IPA。均匀性均匀性，主要是指单晶金字塔绒面的大小以及多晶微沟孔隙的大小的均匀性，其直接影响硅片表面的结构以及反射率的大小。常表现在出现雨点，阴阳面，亮面，白点，暗斑等表观现象。绒面结构的大小不均，除了难以保证较低的表面反射率外，还会导致在后面工序中易出现的碎片以及铝包现象。所以绒面制作的均匀性必须加以控制。而几个常见的表观现象中，雨点主要是由于表面湿润不够，生成的氢气吸附在硅片表面难以脱离所造成的；暗斑主要是由于硅片的表面污染，后面制绒过程中又不能很好的分散及分解，在制绒中重新吸附于硅片表面所造成的；亮点主要是由于局部反应物的堆积，氢气不能够迅速脱离硅片表面所形成；而阴阳面以及亮面，是由于过度腐蚀所造成的，这包括制绒液的配比严重偏离或是极度不均所引起的局部过度腐蚀。
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