Essential Macleod光学薄膜设计软件介绍

nullEssential Macleod光学薄膜设计软件介绍Essential Macleod光学薄膜设计软件介绍吴新民 Email:Support@infotek.com.tw软件介绍软件介绍它是一款光学薄膜设计和 分析 定性数据统计分析pdf销售业绩分析模板建筑结构震害分析销售进度分析表京东商城竞争战略分析 软件， 可以计算给定光学薄膜的特性参数，不但包括反射率(reflectance)、透射率(transmittance)和位相(phase),还包括颜色(color), 超速的(ultrafast),椭圆偏振量( ellipsometric)，以及波长的0-3阶导数。 可以估算分析中的随机误差， 可以对已知的设计进行改进，或者根据设定的材料和目标进行综合设计。软件介绍软件介绍方便创建或编辑各种薄膜， 带有各种薄膜材料和基底材料库， 可以灵活地使用不同的单位， 设计结果可以输出到光学设计软件ZEMAX中去。工具工具Essential Macleod包含大量的工具。主要有： (1)Core: 设计编辑器,数据、目标等编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合(Refinement and synthesis), 输出到 ZEMAX, 导纳轨迹(Admittance loci), 电场,辅助设计， (2)vStack: vStack编辑器, vStack性能计算- 计算非平面平行(non-parallel-sided)基底和薄膜性能， (3)Runsheet: 机器配置和(Machine Configuration) Runsheet 编辑器，工具工具（4）Monitorlink: 特殊的Runsheet配置，输出监控程序，与特定控制器连接的 标准 excel标准偏差excel标准偏差函数exl标准差函数国标检验抽样标准表免费下载红头文件格式标准下载 工具( Free standing tool) ， （5）Function:操作编辑器(Operation editor)和 语法检查程序(syntax checker), 函数求值程序(Function evaluator)， （6）Simulator: 沉积过程模拟器(Process deposition simulator)， （7）DWDM Assistant: 带通滤波器设计(bandpass filter designs)。系统需求系统需求完全与Microsoft® Windows® 操作系统兼容， Pentium 处理器 建议硬盘空间： 20-25Mb ， 内存：128Mb 文件类型文件类型.dds:设计文件 .npl:绘图文件 .tbl:表格文件 .moc:光学数据 .dst:堆(stack)文件 .np3:3维绘图文件 .pmx：pmx文件软件主窗口界面软件主窗口界面主菜单-File主菜单-FileFile介绍－ New…File介绍－ New… (1) Design： 弹出带有缺省设计的设计窗口(2)Material：弹出一个建立新材料的表格窗口，可以输入光学常数和波长等数据， (3)Optical Constant：通过输入的数据得到反射率和透过率曲线， (4)Table：建立一个只读空白表格，栏目自定义， (5)Stack：打开基底和膜层合并的设计和分析的文本窗口 ， (6)vStack：打开不平行基底和膜层合并的设计和分析的文本窗口 ， (7)Substrate：建立材料内透过率的表格。File介绍File介绍Open:打开已经有的薄膜文件， Open Material：列出所有可以选择的材料， Open Substrate：打开基底文件，表格中显示不同波长的内透过率或密度， Open Reference： 打开参考文件。参考文件包含如颜色评介方面所需要的数据。主菜单-Tools主菜单-ToolsTools介绍Tools介绍Materials：打开材料数据表，双击表中任何一个材料，都会弹出这个材料的波长和折射率数据， Load ZEMAX Coating File：其数据可以与zemax交互使用，主菜单-Options主菜单-OptionsGeneralGeneralOptions介绍－－ GeneralOptions介绍－－ General (1)Data Sources ：上面的是当前材料文件夹的路径；下面是参考文件夹的路径。 (2) Windows：选择Cascading Close时，当一个设计窗口关闭时，相关的图表窗口都一起关闭；当选择Prompt to save old Tables and Plots before closing box 时，会在关闭图表前提示是否存盘。选择Keep old Plots and Tables displayed时，打开新的设计时，原来设计的图表仍然存在。PlottingPlotting图形坐标轴和绘图的定制。ConeCone控制Stack Editor提供的cone计算， Nominal Cone Segment Length ：计算特定波长、频率和入射角时的cone响应时，控制Cone用的适应计算。与 Nominal Plot Segment Length 类似。 Bandwidth Step：带宽不为0时，控制步长， Gaussian Calculation Scale Factor ：缺省值是2，此时，光束的强度降为轴上的0.0003倍，对大多数的情况可以了， 越大，计算越久。DesignDesign控制显示的膜层顺序和计算公式顺序等。Chart StyleChart StyleChart Styles :定义绘图数据的风格。包括颜色、线型等。General UnitsGeneral Units定义各种量的单位。DESIGN WINDOWDESIGN WINDOW设计窗口设计窗口选择new>>design进入设计窗口(整个主菜单相应变了)： (在file>>display setup中设置此表格的显示栏目)膜层编辑－Formula膜层编辑－FormulaFormula可以用简化符号编辑薄膜，特别是输入膜层数据很方便。 用符号：H, L, A, B, c, d 等表示。 膜层厚度表示为基本厚度(basic thickness)的积，如2.5H or 0.4L (如果基本厚度为0.25，则分别表示 2.5*0.25 = 0.625 full waves和0.4*0.25 = 0.1 full waves) 。 符号可以表示成一个简单的序列或重复的序列 ，如： (HL)^6 3.4H2.1L或((H1.2L2B)^2 HL)^3 (LBH)^2。Formula窗口Formula窗口Generate Rugate…Generate Rugate…用这个命令容易生成一个有皱褶膜(rugate coatings)模型。 用大量的分离的变化的折射率层模拟皱褶膜的连续变化的折射率。折射率的变化用改变每层的packing density 来实现。 Generate Rugate命令可以容易地指定折射率变化，并且控制模拟皱褶结构的层的数目。膜层厚度(thickness)膜层厚度(thickness)可以是光学的(optical), 几何的(geometrical), 物理的(physical)或QWOT。 (1)物理厚度：按物理单位(通常是nm)测量的。这种厚度可以转换为晶振监控规格，或溅射线上的沉积时间， (2) 光学厚度：物理厚度乘以材料的折射率，即光程，再除以参考波长。光学厚度乘以2p就是位相厚度(单位为弧度)。常用光学厚度， (3)QWOT厚度：其数值为4倍光学厚度， (4)几何厚度：物理厚度除以波长。光学厚度->物理厚度光学厚度->物理厚度Scale Thicknesses...Scale Thicknesses...偶尔有某些材料的厚度要按同样的方法改变。 当研究不均匀性时，或需要对通或禁带进行微调时，经常要这样做。 有时候要保持特殊参考波长的值，但要将所有膜层厚度按同样的比例改变。都可以用这个命令容易实现。Match Angle...Match Angle...设计时光线都是垂直入射的，但如果是倾斜的，则需要调整相应的薄膜厚度。此命令可以自动调整这个厚度。Global Edit…Global Edit…改变设计中的所有膜层或只改变所选择的膜层。Edit Materials...Edit Materials...可以改变设计中的材料。它只改变设计中的材料。 不改变公式中列出符号。PerformancePerformance设置绘图的参数。3D Performance...3D Performance...定义3D坐标 轴。Plot OverPlot Over将同个设计的多根曲线画在一起。 将不同设计结果的曲线画在一起TableTable属于只读表格。 如果需要改动，可以将Edit菜单里的Read Only复选钩去掉。Errors分析Errors分析Mean和standard deviation可以是 Absolute或Relative. 通常选择相对的，此时误差与膜层厚度成正比。 ColorColor颜色计算的设置。3D Plot3D Plot画一个 3D plot。 坐标轴的具体的设置在Parameters>>3D performance里面。Lock/Link Menu (Design)Lock/Link Menu (Design)　用于refinement 和synthesis 过程。 　Lock:如果 layer 锁定了，则不参加优化，保持其初始的厚度值。 　Unlock:取消锁定， 　Link:二个或几个膜层建立关联。TOOLS－Compact designTOOLS－Compact design设置 最小允许的膜层厚度。软件会将厚度小于设置值的膜层去掉，并关闭设计。Refine DesignRefine Design　提供的优化方法有： Simplex, (通常叫nonlinear simplex） Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton， Needle synthesis。 Index Profile...Index Profile...绘出折射率－厚度曲线。下图中显示的是quarter-half-quarter抗反射膜的折射率曲线。左边是入射介质，右边是出身介质或基底。产生Rugate 薄膜产生Rugate 薄膜Material中设置的膜层中允许的最高折射率， Void Material 中是膜层中允许的最低折射率。 Void Density设置为1. Rugate 薄膜举例Rugate 薄膜举例REFINEMENT AND SYNTHESISREFINEMENT AND SYNTHESISRefinement和synthesisRefinement和synthesis可以自动优化设计，它们的操作是类似的 Refinement一般是对已有的设计进行轻微的调整， synthesis 则着重于结构，即使没有初始结构也可以操作。 Targets for refinementTargets for refinement包含三种目标： Standard, Color， Thickness Standard TargetsStandard TargetsStandard Target的设置Standard Target的设置Wavelength:工作波长，单位nm, Incident Angle：按定义的单位。如果不是0，则可以选择偏振分量。 Weight： 权重。缺省值为1， Target Tolerance ：每个目标值可接受的公差值， Derivative ：给出相对于第一栏中自变量(波长或频率)的目标类型的偏差的等级，如果是0，表示没有偏差。 Link：指定目标值之间的联系。Color Targets的设置Color Targets的设置color targets：除了类型是颜色方面的外，其它各项的意义和标准目标是一样的。还需要指定光源分布和观察者。 mode：指定是计算透射还是反射的颜色 。对stacks, 还有一个模式就是Back Reflectance.它计算出射介质一端反射的颜色， 对vStacks, 只有throughput模式。Thickness TargetsThickness Targets显示材料和所要求的总厚度。当有一个或多个总厚度目标，refinement试图移去材料的总厚度，达到要求的厚度，同时又去满足其它要求。Refinement and SynthesisRefinement and Synthesis有六种方法： Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton Needle Synthesis. Simplex 提供直接的优化， Optimac 可以refinement 和 synthesis, Simulated Annealing 优化，但可以在一个很大的参数空间范围，Conjugate Gradient和 Quasi-Newton是化方法，它们是用信息(derivative information )来进行 优化。Needle synthesis方法是增加膜层。Simplex refinementSimplex refinementSimplex refinement计算速度非常快。 通过对初始膜层和/或packing densities进行扰动。 通常，设计的总数目会比层数多一个，packing densities最小为5。采用迭代的方法，用好一些的设计结果替代最差的设计。 Simplex refinement的设置Simplex refinement的设置Simplex 设置说明Simplex 设置说明可以选择Refine Thicknesses 和Refine Index ， 用Packing Density作为变量优化折射率， 用upper和lower thickness limits控制厚度， 用 packing density limits控制packing density。 Common Scaling，如果选定，则 相同材料的所有膜层的packing densities移到一起。 Inhomogeneity可以通过至少二个有各自不同的packing density的膜层来模拟。 因为这种方法很快，所以建议迭代的次数设定为几千， 优化过程会自动显示曲线 。Simplex 过程Simplex 过程Optimac优化参数设置对话框Optimac优化参数设置对话框Optimac设置-优化参数Optimac设置-优化参数Optimac有很多小面facets。 可以适用 于synthesis 和 refinement. Optimac对膜层厚度没有限制，只要不为负就行。 通过设置Number of Synthesis Cycles 的值，确定是否refinement 或synthesis 。如果为0，则只进行refinement 。如果没有初始结构，取50左右比较合理。如果有好的初始结构，可以用比较低的值。 Synthesis Step：表示插入到synthesis过程的膜层厚度。 可以设置得很大，但通常在0.1~0.3比较好。 Optimac设置-优化参数Optimac设置-优化参数Synthesis Parameter ：决定在synthesis 操作中，改变是否保持。对比较好的初始结构，设置为0.2左右比较好。 Initial Search Step：程序会先在 “当前值 ±Initial Search Width”范围内搜索。 Number Of Iterations： 根据每个synthesis 操作之间的优化次数。应该设置为 40~50。 Maximum Number of Layers：如果设计过程是完全自动的，则不要设置得太大，否则会连续增加膜层。如果设计过程受到监控，并且在适当的时候会手动停止，则可以设置得比较大。Optimac材料设置Optimac材料设置Optimac过程Optimac过程Simulated Annealing优化算法介绍Simulated Annealing优化算法介绍Simulated Annealing 不是一个新技术， 但大量用在薄膜设计中。它由一个设计组成，随机地在优化函数面上进行扰动。 模拟实际的退火过程，由Boltzmann分布exp(-E/kT)产生的随机数确定下一个结果，E代表优化函数的随机增加，KT代表退火温度 k是 Boltzmann常数，而不是消光系数) 。慢慢地使优化函数达到最小。处理过程越久，通常结果更好。 在没有明显的初始结构时，用这种方法最好。适用于有入射用的情况，特别是其它方法不行的时候。Annealing参数设置Annealing参数设置Annealing参数设置Annealing参数设置参数、标准偏差和初始温度分别设定。 厚度波动的标准偏差有一个开始值和结束值。在操作开始时，波动应该非常大，但在末期就比较小。 退火温度的单位为度，每一度为初始优化函数的1/10000 。好的初始结构是必百或上千， 退火过程会慢慢地降低温度，直到最终为0。温度的下降不是线性的，有时候递减的速度开始快，但标准偏差是相同的。Annealing参数设置Annealing参数设置绝对：0.2意思是在当前厚度上增加0.2xl0， 相对：则是在当前厚度上增加膜厚的0.2倍， 最好选择“绝对”，至少开始的时候，否则薄膜会不变化。随机数的种子来自计算机 的时钟，一般不需要改变。 在simulated annealing中，厚度上限在0.75左右是非常好的起始点， 如果设置得太大，特别是早期的时候，会出现优化函数的大幅振动。Annealing 过程Annealing 过程Conjugate Gradient法Conjugate Gradient法Conjugate Gradient 优化方法属于用微分信息确定优化函数面的斜率的方法。优化时，此信息用于改变设计参数(通常是膜层厚度) 。Conjugate Gradient参数设置Conjugate Gradient参数设置Merit Function Power：必须为正的偶数 ，此数越大，优化越久。 通常为2就可以了。 Limiting Range for Merit Function ：如果优化函数小于此值，则会停止优化并返回优化设计。 Maximum Iterations：另一个优化终止的标准。 Minimum Merit Function Improvement To Update Plot (%)：控制多久要更新曲线一次。 Termination Match Count：可以用于指定达到所要求的小斜率的连续的时间的数目。 如果 Termination Match Count 小于0 ，因为优化函数斜率很小，则 refinement永远不会停止。Conjugate Gradient 过程Conjugate Gradient 过程Quasi-Newton法介绍Quasi-Newton法介绍Quasi-Newton 优化方法也属于用微分信息确定优化函数面的斜率的方法。优化时，此信息用于改变设计参数(通常是膜层厚度) 。 其参数设置和Conjugate Gradient一样。Quasi-Newton过程Quasi-Newton过程Needle Synthesis法介绍Needle Synthesis法介绍Needle synthesis用优化图形面的微分信息来确定需要在哪里插入一个新的膜层。 当优化图形的微分为负时，是插入新的膜层的最佳位置。 在插入了所有厚度为0的膜层后，用Conjugate Gradient refinement将新的膜层的厚度扩展为非0值。 在refinement过程中,如果能够改进优化图形，其它膜层的厚度也会改变。 优化过程一直重复，直到达到所要求的结果为止，或者达到某些限定(如总的迭代次数)。Needle Synthesis参数 Needle Synthesis参数 Needle Synthesis参数介绍Needle Synthesis参数介绍Number of Synthesis Cycles：指定Needle Synthesis尝试插入膜层的次数。当超过这个值时， Needle Synthesis会停止。 Merit Function Limit：是另外一个控制 Needle Synthesis何时停止的一个参数。当优化函数降到小于这个值时， Needle Synthesis停止。 Needle Synthesis参数介绍Needle Synthesis参数介绍如果Conjugate Refinement完成了，则会插入一个厚度小于New Thickness Value新的膜层， 然后Needle Synthesis 会在入射介质后面或基底前面加入增加一个材料。如果优化函数没有改进Minimum improvement所确定的数值，则再增加新的材料。 Maximum Number of New Needles：定义每次迭代时可以增加的最大层数。当Compact Interval大于0时，每个Compact Interval都迭代，Needle Synthesis会简化设计，去掉那些厚度小于Compact Thickness的膜层。如果Compact Interval等于0，则不简化设计。它们一般都设置为1nm。Synthesis Materials参数Synthesis Materials参数列出插入新的膜层所用的材料。缺省值为设计中所有没有locked膜层所用的材料，还可以增加或去年其它材料。Needle Synthesis过程Needle Synthesis过程MATERIALS MANAGEMENTMATERIALS MANAGEMENT材料管理介绍材料管理介绍光学常数数据有： 折射率 n, 消光系数k, 波长l等 。 如果需要，这些值可以进行内插或外推。 一次只能有一个活动的材料库，但可以通过输入相关材料文件，使用多个库中的材料。 设置活动材料库方法为： Options >>General…中设置。要改变材料库，首选要关闭所有设计和材料， 然后在材料文件夹选项中选择。如果输入了一个新的，但本应的材料不存在，则会给出一个新建选项，它是一个空的数据库，除了一个材料，空气和一个基底外。在库中显示材料列表在库中显示材料列表大部分窗口的Tools菜单中都有Materials项. 材料排列顺序可以通过Edit>>Sort来改变。从其它库中输入材料从其它库中输入材料首选用Tools>> Materials激活 Materials窗口， 然后用Edit>> Import命令 。选择所要的材料库，并从中选取要输入的材料，点import就可以。显示材料数据显示材料数据材料表可以可以用File>> Open Material... 命令打开。 另一种方法是在材料显示列表中(Tools>> Materials)双击材料的名称，可以得到这个材料的特性列表。此时，可以从Plot菜单中画出材料对波长和频率变化曲线。手动输入手动输入用file>>new>>material新建材料时，对一些没有输入的值，用线性插值的方法计算。 但一些不平滑的曲线，可以用Insert Points，然后程序用三次样条插值计算进行平滑。用insert points进行平滑用insert points进行平滑用edit>>insert points，在整数波长之间插入其它点，使曲线平滑。波长单位变换波长单位变换在编辑新材料时，可以用Edit>> Wavelength Scale... 命令定义不同的波长单位(缺省为nm).组合密度Packing Density...组合密度Packing Density...薄膜的折射率不仅取决于材料，还取决于组合密度。即使是同一材料，如果组合密度不同，其折射率也不相同。当组合密度变化时，通过它可以让存储的材料的折射率也变化。 它可以在二个数据库中调整二个材料的常数，以表示在不同基底温度下的材料沉积的不同。 注意：一旦改变了，在用的时候没有任何指示。所以，除非非常明显，的材料与标准的不一样，否则不要用此命令。热模型热模型材料的三个热参数。Linear Expansion Coefficient和dn/dT 的单位是固定的。删除材料删除材料首先选择Tools>>Materials 然后选择Edit>>Delete 只能删除最后一个材料。Optical Constant ExtractionOptical Constant Extraction可以用变量包络技术(variant envelope technique)，可以 从反射率和透射率的数据提取光学常数(Optical constants)。 这种方法通过反射率和/或透过率的最大和最小值，用插值计算最大和最小值之间的数据，产生包络。 如果精确地确定了极值的位置，则可以给出光学常数的色散信息。Optical Constant Extraction步聚Optical Constant Extraction步聚File>>New>> Optical Constant 打开窗口， 输入相应的数据(如下表)，里面包括最大和最小透过率或反射率(没有对后面的面进行修正，要求后面的面是未镀膜的)。参数设置参数设置Type:用不同的符号表示1/4 或1/2波长：T-QW, T-HW, R-QW ，R-HW. 基底的结果可以输入或通过已经存在的材料文件取得。这些也可以是未镀膜的的透过率，标记为T-SUB, 或基底折射率，标记为 N-SUB. Data Source ：Measured 和Envelope。 Measured对应实际的最大或最小值。 Envelope 的结果是为了帮助程序画1/4或1/4波长包络图。是由三次样条插值函数插值得到的。数据输入数据输入菜单项Transmittance 或Reflectance打开一个数据显示窗口。可以用file>>import输入透射率或反射率曲线。 用鼠标拖动一个矩形区域来定义搜索范围，放开鼠标得到峰值的位置。就在窗口的左上角显示波长和峰值的值。需要指定是1/4(cross)或1/2(plus)波长， 是测量点还是包络点 。数据输入数据输入用 Add Point按钮会将数据转换到data窗口中， 用来计算包络。 则1/4波长的点，用“”标记，1/2波长点用“+”标记。 用 + 建立不同的包络点。 然后用 Add Point输入为包络点。 Calculate>> Parameters参数Calculate>> Parameters参数Approximate Index：因为有多重解，所以需要指定近似折射率。 R/T Tolerance ：为百分比。如果得不到正确解，决定程序如何处理。首先会在公差范围内调整结果，如果得到了一具好的结果，会标记“A”，如果还得不到好的结果，会标记“B”。Calculate>> Parameters参数Calculate>> Parameters参数Film Model： 薄膜模型是 inhomogeneous和不吸收，还是均匀和吸收的。 Incident Angle：入射到薄膜上的角度 。最大为 45度。. Polarization：倾斜测量的偏振光分量(S,P)。在整个测量过程中，必须用同一个偏振分量。 Match Extrema： 在常规操作中，不是总能精确适合极值波长， Substrate Material：选择基底材料 。 Use Spectrum：选择了时，用透过率数据确定薄膜的光学常数，如果没选，会用Substrate Material的信息确定其光学常数。光学常数提取过程光学常数提取过程点Extract n & k就会进行计算。计算结果计算结果计算的光学常数结果计算的光学常数结果光学常数曲线光学常数曲线从计算结果中创建材料从计算结果中创建材料可以用Create Material菜单选项建立材料。有三个选项：From Inner n, From Outer n, From Mean n. 如果模型是均匀的，则这些结果是一样的，如果是非均匀的，则这些模型明显不一样。 如果检查反射和/或透射曲线，会发现极值点不是很匹配，此时可以选择迫使结果与极点位置匹配，而不是选择Match extrema。此选项先计算光学常数和膜层厚度，然后迫使光学常数与极值点匹配。得到基底的光学常数得到基底的光学常数可以用Options >> Substrate n,k & T ，从透射率和反射率中得到光学常数。材料和基底数据可以从测量数据中得到。一旦选择了Substrate n,k & T命令， 就会显示Extract Substrate Characteristics窗口。数据文件单位数据文件单位选择Unity：测量值在0~1之间. 选择Percent： 测量值在0~100之间.数据处理数据处理一旦输入了scale factor，选择Next就会到数据处理页面。在这里允许对测量的数据进行平滑，及其它处理选项。Substrate Optical Constants Substrate Optical Constants 需要在这里指定基底的厚度值。 用Create Material 和Create Substrate按钮创建新材料文件和新基底文件。它们可以存在当前材料数据库中。MULTICOAT-StackMULTICOAT-StackMULTICOAT-StackMULTICOAT-Stack它由一系列介质组成，从Incident Medium介质开始，以Emergent Medium结束。下图就是一个多层膜的例子。更复杂的stack例子更复杂的stack例子参数定义参数定义Medium type:Incident, Emergent,parallel, wedged. 假定介质的界面或边界足够平行(所有反射的光束仍然在系统的孔径内)，或 是楔形的(反射光束到系统孔径之外) 。 Medium material:由其光学常数和内透射率确定。 Medium substrate:和材料一样选择。 Coating file:薄膜文件名。 coating direction：forward, reversed,定义每一层薄膜。 Coating Locked:只有没有锁定的膜层才参加优化和综合。 Stack Refinement and SynthesisStack Refinement and Synthesis在stack中，如果同一个薄膜放在不同的面上，则优化时，会只调整其中一个，然后再应用到所有的面上去。 如果想优化的时候分别处理所有的薄膜，但又想让它们的起始点相同，则应该将它拷贝成新的文件，放在不同的面上。创建新的stack的方法创建新的stack的方法File>>New>>Stack调出Stack 窗口， 起始的stack由入射介质空气、一块平行玻璃板和出身介射空气组成，没有薄膜。 1.建立一个新设计1.建立一个新设计下面以计算二边都有抗反射膜的平行玻璃板的特性为例说明如何建立stack。 首先，要建立一个抗反射膜。可以用file>>New 建立一个新抗反射膜。然后存为Arcoat.dds建立stack建立stack只需要加入二个薄膜。在stack窗口上的第二栏和第三栏上的Coating File栏双击，选择 文件 ARcoat.DDS.如果要删除膜层，选择膜层，然后按就可以了。 Directions会自动给出，如果不对，可以更改。 Performance设置Performance设置可以从 Parameters>> Performance中设置绘图的条件。建立更复杂的stack建立更复杂的stack由二块玻璃基底组成。一块二边镀有抗反射膜，另一块只有一边镀膜。入射和出射介质都是空气，在基底二边都是空气，基底的面是平行的，但它们之间的空气间隔是楔形的。内透过率为100%。 新的stack如下：反射率和透过率曲线反射率和透过率曲线ANALYSIS 和DESIGN 工具ANALYSIS 和DESIGN 工具分析工具分析工具先打开设计窗口，Tools>> Analysis打开分析工具。 有5个选项： Admittance..., Reflection Coefficient..., Electric Field..., Absorptance Rate..., Total Absorptance.... 。导纳图Admittance…设置导纳图Admittance…设置导纳图导纳图Reflection Coefficient...Reflection Coefficient...电场Electric Field参数设置电场Electric Field参数设置电场分布曲线电场分布曲线Absorptance Rate…参数设置Absorptance Rate…参数设置计算薄膜的 Absorptance Rate或potential absorptance rate 。Absorptance Rate曲线Absorptance Rate曲线Total Absorptance…设置Total Absorptance…设置计算整个薄膜中各层的吸收率 。Total Absorptance…曲线Total Absorptance…曲线设计工具设计工具有4个选项： Edge Filter..., Herpin..., Induced Transmission Filter Design... Symmetrical Periods…. 可以辅助建立一个特定类型的薄膜。Edge Filter...Edge Filter...Edge filters Edge Filter... 是用来自动设计这样一个周期性结构的工具。是基于1/4波长stacks。 用于构建平板偏振器。 一般可以考虑成如(0.5HL0.5H) 或(0.5LH0.5L)的对称周期性结构。 [对称周期性结构参见 Herpin...] 还有更复杂的对称二种材料的周期性结构 (aAbBcAbBaA) ，其中A 和 B高和低折射率材料(或者反过来) 。可以通过调整a,b,c来消除偏振， 尽管对很多层的对称周期性结构也可以调整，但最好是用5层周期。Edge Filter参数设置Edge Filter参数设置Edge Filter设计Edge Filter设计只要选择好了，然后点Make Edge Filter就会出现一个设计结果，同时在公式对话框中会显示其公式。 下面是一个短波通滤波器(边缘510nm)。设计结果的曲线设计结果的曲线所对应的公式所对应的公式打开edit>>formula：Herpin...Herpin...膜层的对称系列的积矩阵(product matrix) 可以表示为一个单层膜的矩阵形式。这种等效的单层膜与对称系统具有等效的光学导纳和位相厚度。这就是所说的Herpin等价。 因为对称系统在同一个设计中要重复多次，常认为是对称周期结构，有时也叫Herpin 周期。 Herpin... 计算对称的介质膜(即透明的)的等效导纳 E, 和等效位相厚度 。在计算前，认为膜层的材料和厚度为均匀的，也不考虑任何输入入射角，只计算垂直入射的等效参数。Herpin操作举例Herpin操作举例在一个设计中，选择一系列膜层为对称的周期结构。设计中可能有其它膜层，但计算时只考虑所选择的膜层。 首先激活设计窗口，选择Formula， 输入有关数据。设计结果设计结果上面的设计可以得到以下的结果： Herpin设计Herpin设计用Shift+mouse选择前面三层， 从Tools>>Design Tools>>Herpin.... ,会出现下面的对话框，可以选择输出是表格还是绘图。导纳曲线导纳曲线二根曲线之间的间隔参数是虚数的区域，是高反射率的区域Induced Transmission Filter Design...Induced Transmission Filter Design...此选项计算感应透射滤波器的参数。设计时： (1)Tools>>design tools>> Induced Transmission Filter Design.启动设计窗口， (2)设置滤波器的峰值波长，入射介质的材料，入射角和偏振等，偏振可以为s或p(入射角为非0) 。 (3)设置吸收层的详细数据：材料，厚度，厚度的单位。 (4)匹配层的材料：这个材料假定是理想电介质，在进行计算以前，所有消光系数都去掉。参数设置窗口参数设置窗口Potential Transmittance: 74.07% Intercept: 0.104545 设计结果设计结果用 Make design，将结果转换到设计中去。设计结果： 吸收层 n: 0.0510，k: 2.9600000 物理厚度: 80.000000 Optimum exit admittance: 0.31707 + i3.04661 匹配层折射率: 2.1445，光学厚度: 0.15292420Symmetrical Periods Design… Symmetrical Periods Design… 对称薄膜组合，可以用一层膜等效，其光学导纳和位相厚度可以从单层膜的参数计算。 symmetrical periods design 可以计算3层对称周期结构的厚度，所以其等效膜有相同的光学导纳和位相厚度。SensitivitySensitivitysensitivity 计算设计结果对不同公差的灵敏度。目前只能计算一种– Macleod Turning Point. Macleod Turning Point sensitivity 分析每层制造的难度。Macleod Turning Point给出参考波长处，最后透射率和反射率振幅能达到的情况。 值越大，表明膜层的制造越困难，具体可参见"Turning value monitoring of narrow-band all-dielectric thin-film optical filters" in Optica Acta 1972 Vol. 19 No. 1 pp1-28. 它全部是正的。 只适合厚度为1/4波长的整数倍的情况。相对灵敏度相对灵敏度例子：small single cavity filter谢 谢!谢 谢!