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氨基磺酸镍工艺简介.doc

氨基磺酸镍工艺简介

心腐烂在身体
2017-09-26 0人阅读 举报 0 0 暂无简介

简介:本文档为《氨基磺酸镍工艺简介doc》,可适用于工程科技领域

氨基磺酸镍工艺简介近年来随着全球电子行业的迅猛发展,电子产品的品质要求更是精益求精越来越多的厂家对电镀金属层的品质要求也越来越高镀层内应力低,延展性良好,均匀性佳的镀液正被众多的厂家大力倡导和推广氨基磺酸镍镀液能获得比传统的硫酸镍镀液机械性能更优良的金属镀层:!{'wb:V|镀液电流效率高,可节约电镀时间,提高生产效率|DrB(g"To$Xv镀层结晶细致,均匀平滑,色泽光亮x$K#t)U!awo镀层内应力低,延展性好,焊锡性佳镀层含硫量低,少于XPnM#k)n!h适合喷沙或磨沙工件电镀,工件处理能保持其原有砂纹特性及外观|m(JmCSB适用于低应力镍镀层之要求的应用,如电铸等kx#B#`#P)eW#v特别适用于功能性电镀,常用作金、钯、铑、银等贵金属电镀和非金属电镀打底镀层Q#ENF!PRc极适宜于电子电镀之连续电镀、TAB电镀、快速电镀及要求较高的小孔径高精密线路板电镀PCB镀镍层在PCB生产中可以有效地防止铜和其它金属的迁移对某些要求不高的单面PCB板也作为面层镍金组合镀层中的镍层则作为抗蚀层。氨基磺酸镍镀镍工艺以其优异的分散能力能得到均匀细致、低内应力、硬度中等、延展性好的镀层而在PCB生产中得到大量应用。t#{B'f!H作为镀液的主盐提供镍离子一般控制在镍金属含量在克升主盐浓度太高会降低镀液的分散能力主盐浓度太低会导致高电流密度区容易烧焦镀层沉积速度慢。$F$l#P`"U'z#HFO$m$JL}ga$luX|X为了使阳极正常溶解不断补充电镀中消耗的镍金属在氨基磺酸镍镀液中常用的是氯化镍含量一般不能超过克升因为含量过高会增加镀层的应力。!tDxyo~qo)w{XG!Adu$Ix$V"~e(dJ,不仅具有缓冲pH值的作用而且还能提高阴极极化改善镀液的性能能在较高的电流密度下使镀层结晶细致不易烧焦。BO,VaclQVUz#TYQ"o`ZHA$zWBh$OsLUHc$sh:一为应力消除剂随着浓度的变化可使镀层的张应力改变为压应力还有使镀层结晶细化改善镀液分散能力作用二为润湿剂可以减少镀液的表面张力消除镀层的针孔、麻点。Y$i{P!fpHAt*fCz*ia!RvpH值控制在为宜pH值升高有利于镍的沉积但过高时阴极会出现碱式镍盐的沉淀倾向也会产生金属杂质的夹杂从而导致镀层粗燥、毛刺和脆性增加pH值太低阴极电流效率降低沉积速度慢甚至会产生表面大量析氢使镀层难以沉积镀层灰暗有针孔。降低pH值用氨基磺酸或盐酸提高pH值用碳酸镍加入方法是将它们放入过滤袋内挂入镀槽中使其缓慢溶解切不可将固体直接加入镀液内当pH值达到要求后取出滤袋水洗烘干备用。p#jY#Z操作温度对镀层内应力影响很大当温度有度到度时,内应力明显降低,到以上后内应力比较稳定提高温度就提高了镀液中离子的迁移速度,从而改善了镀液的电导,从而改善镀液的分散能力和深镀能力,使镀层分布更均匀同时温度升高,可使用比较高的电流密度X!alz(xG#K#}LDN*O,L"mWM$tZCP)QK)!IW*c在达到最高容许电流密度之前,阴极电流效率随电流密度的增加而增加,在正常操作条件下,阴极电流密度A平方分米,电流效率可达到而且镀层外观和延展性均好对于拼版面积较大的情况,由于其中心区域'yv)^'J`'c#J和边缘高电流密度区的电流密度可能相差几倍,所以实际操作时平均电流密度A平方分米Z)GjK|NYF*|`N*U*~BoX})I'j:d(y*ol(W,j*L#~!S'L$^FV"m由于现今PCB普遍要求导线细,高密度,细孔径化等技术特点,传统的硅整流器与可控硅电源波纹系数数值高,很难满足PCB电镀电源要低波纹的要求,为此就要选择波纹系数小于,电压电流调控精确,能保持稳定的电流密度等特点的高频开关电源)AM'BFl,ebzAkwv'odggfj)HI一般使用空气搅拌和连续过滤相配合的方式,空气搅拌要选用无油风机空气流速不能过大,因镀液流速太快会降低镀液的分散能力搅拌可以有效地消除浓差极化,保证电极过程,也有利阴极表面产生的少量氢气很快逸出,减少可能出现的针孔连续过滤能及时清除镀液中的机械杂质过滤机的能力应满足每小时至少将全部镀液过滤一次过滤芯采用聚丙烯滤芯,精度为微米xN:ir|h${EuHJ$w)D'pE*dvU*UAY$Tw采用电解镍板或使用装入钛篮的纯镍角使用镍角有利于维持阳极面积,镍板或钛篮都应该装入阳极袋中,并使袋口高出液面,以防阳极杂因搅拌带入镀液内,阳极应比阴极距槽低高出毫米,以免阴极边缘因电力线过于集中而烧焦镀层a#qM(Yz$fg,oT)DtDL工艺组成:$J!^(DG)XZ}x'Q氨基磺酸镍~!`$`:CUg$f'"nlgL)E}LIiqz)q'E*^*bqJA"*}dQ氯化镍#}D)Wm"xwd"Zs$ggLLp,j}$Y"R)U硼酸KB'twh*dgLUv!l:}*~*xCs)ya'ivi,Z:j)dzPHIZu*)j,t`#{|,KCqJ:F温度E{,a*u$p!^qTa度(R:pS"qAgF!hC#X'J阴极电流密度不搅拌PW*sLtLAdmz'iG|*f!Pn'URGIBm)O*uq:mI搅拌:qu{#U)}#ArAdm

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