ADS2011教程(中文)

ADS 2011 Workshop Labs – version 1   © Copyright Agilent Technologies 2011 ADS 2011 实验练习 本实验是针对已经熟悉 ADS2009 及早先版本的用户所设计，主要目的是帮助客户熟悉 ADS2011的新版本。 实验一： ADS 2011基础 重要提示： 这个实验的实验环境是 ADS2011，面向对 ADS2009或 者 以前版本有一定经验的用户。 1. 工程文件从 project文件转换为Workspace文件 a. 启动 ADS2011：可以通过桌面快捷方式或者开始 菜单中的命令启动软件，关闭弹出的“开始使用” 对话框。（可以在以后的时间里学习里面内容） b. 在 ADS主窗口，单击菜单栏下：【File】—> 【Convert Project to Workspace】 c. 弹出提示框：选择需要转换文件的路径： /examples /Training /Conversion_Sample（软件安装目录下），选择待 转换的工程文件WORKSHOP_prj。这个文件是 ADS自带的一个工程文 件，它是用来演示怎么把 Project文件转换为Workspace文件的。 d. 选中WORKSHOP_prj后，出现转换向导界 面，查看转换向导信息，然后点击下一步。 e. 为Workspace文件取名，如：lab_1_wrk。 不要使用已经存在的文件名， 否则会提醒你重新给Workspace文件命名。定义Workspace文件所在的 路径。注意：不要在 examples路径下建立_wrk 文件，可以选在 users/default或者其他路 径。点击下一步…… Copyright 2011 Agilent Technologies 2 Lab： ADS 2011 Workshop f. Libraries（元件库）： 去除DSP元件库 前的复选框，这里不需要其他的元件 库。当然，可以加入一些其他的元件库 到这个Workspace中。在 “.prj”文件转换 为 “.wrk”过程中，会产生一个服务于 “.wrk”的元件库。 g. Library Prefix（元件库前缀）： 查看 向导中的提示信息，”.wrk”文件名，文 件地址是否正确。 若有问题，点击 back进行修改。 默认状况下，元件库 的文件名=“Workspace的文件名+lib 后缀”（见图），点击下一步。 提示： 只有对 ADS2011非常熟悉， 并 且不想生成 “.wrk”所需要的元件库时， 可 以直接点击“完成”按键。(不推荐) h. Summary（总结）： 最后提示 “.wrk” 工程文件和元件库文件建立信息。检 验无误，点击 “完成”。这样，”.wrk” 文件转换完成，并且生成了元件库文 件。你也可以点击“返回”，对设置 进行相应的更改。 i. 弹出转换完成信息框，选择“Yes”打 开这个 “.wrk”工程文件。倘若有问题， ADS也会弹出提示问题让你更正。此 外，原来的 “.prj”工程文件还在原来的 路径下面，仍然可以使用。 2. 查看转换后的 “.wrk”文件 a. ADS2011主界面窗口，如下图所示。在 wrk文件下有三个 Cell，两个 DDS文件，两个基板文件。在主窗口空白处右击选择 Filter View（如 图），可以设置观察的文件类型。 Copyright 2011 Agilent Technologies 3 b. 在弹出的（View Options）窗口中， 选择要查看或者关闭的文件类型。 c. 点击 “+”展开 Cell ：LPF_MS。 定义看到的图标称为 视图文件（views），这个 Cell包含有 5个视图文件：1 个符号文件（Symbol）， 1个原理图文件 （schematic）， 1个印制板文件（layout）， 还有 2个 电磁环境设置文件（EM）。 d. 双击打开 layout、schematic 和 symbol 视图文件（如 图），电磁视图文件（EM）在下面再介绍。 三个 View文件打开后，发现 它们的窗口环境和 ADS2009相似。这里，原理图文件用于产生印制板板 图，Symbol 文件和板图相似。 Copyright 2011 Agilent Technologies 4 e. 关闭这三个 Views窗口。这三个 Views 表 关于同志近三年现实表现材料材料类招标技术评分表图表与交易pdf视力表打印pdf用图表说话 pdf 达的是同一个设计，也可以说是 一个设计在这里用三种 Views表述：原理图、板图、符号。 f. 双击 EM图标： emModel、 emSetup（如图），打开两 个 ADS2011新增的 EM用户界面： Model文件是 Momentum仿真结果文件；Setup文件包含了 ADS2009 Momentum仿真中所有的参数设置。 想更多了解选择 【help】> 【What’s New】。注意到 Setup文件中 substrate和主窗口中 dsn_LPF_MS图标相同。在后面 Part3将做更多的介绍。这里不做修改， 关闭所有的视窗。 Lab： ADS 2011 Workshop Copyright 2011 Agilent Technologies 3. 查看数据演示窗口（DDS） a. 双击 LPF_RESULTS。dds打开 DDS窗口。 显示两条 S(21)曲线。一条是 原理图仿真的曲线；另一条是 MOM板图仿真的输出结果。 b. 双击图形窗口，弹出一个画线和属性窗口（plot traces and attributes）。 这些设置和 ADS2009U1一样。 4. 打开 LPF_SCH cell a. 展开 LPF_SCH cell，双击打开 Schematic和 Symbol。 5 b. 这个原理图除 S参数仿真所需的控件外，和 LPF_MS的原理图没有什么区 别。 这里的 S(21)仿真曲线在（3.a）已经提到。此外，LPF_SCH和 LPF_MS的 Symbol文件相同，这在 ADS2011是允许的。这两个 Symbol 都是在”.prj”转换为”.wrk”过程中产生。关闭这两个窗口。（原理图和符 号） c. 查看已经打开的 ADS2011两个 Cell文件，将它们与 ADS2009中的两个滤 波器设计文件进行比较：ADS2009哪个文件转换为 ADS2011的 Cell， Cell下 View文件有什么不同： 不 难 看 出，第一个 Cell，多了MOM EM设置文件和一个板图设计文件；而第二个 Cell的原理图除增加了 S参数仿真所需的控件外，和第一个 Cell中的原理 图相同。 同时，从架构上看，DDS在Workspace（ “.wrk”）下， 而 Cell文件在 元件库（ .lib）下，元件库同样包含在所服务的Workspace（ “.wrk”） 下。 下面，我们再看第三个 Cell。 第三个 Cell是把前面设计的低通滤波器级联在放大器的输出端，然后对这 个设计做谐波仿真。这个 Cell向大家演示了同一个 Symbol表征不同的模 型（原理图设计底层设计或者板图文件），使得仿真结果由于模型的不同而 不同。这种在原理图中切换模型的新功能称为动态模型选择。（dynamic model selection or polymorphism） 5. 打开查看 HB Cell文件 a. 在主窗口中，展开 TEST_LPF_HBamp cell 并双击打 开原理图和符号视窗。其中 Symbol View是 ADS默 认的符号图形，它是从低版本 “.prj”工程文件转换到 ADS2011 “.wrk”文件过程中产生的。 Copyright 2011 Agilent Technologies 6 Lab： ADS 2011 Workshop Copyright 2011 Agilent Technologies b. 删除这个符号。选中这个 Symbol View右击，点击 Delete，选择 yes确认删除命令。这个符号是在转换 过程中自动生成的，而在本设计中，我们并不需要这 个符号，因而我们把它删掉。 c. 打开 DDS文件： TEST_LPF_HBamp.dds ，让它们 在屏幕上同时显示。（如图） d. 选择符号，点选 Push into Hierarchy 进入子电路，这是一个微带电路原理 图设计文件，点击 Push out 返回上一级电路。 e. 现在，delete 原理图中的滤波器符号，点击打开元件 库图标（有图）。 这里可以找到许多元件库，这些操 作和 ADS2009及早期版本相同。 7 f. 在元件库中，（元件库包含在 Workspace下面）。 如右图，把 LPF_MS元件插入到刚才的原理图中， 可以拖拽 LPF_MS元件到原理图指定的 位置，当然元件仍然还在原来的元件库 中。 6. 动态 View文件切换扫描 a. 选择滤波器符号，选择 View文件切换图标（如图），它的功能是切换不同 的 View文件，这个功能被叫做动态模型模型切换。（ dynamic model selection or polymorphism） b. 在提示框中选择 emModel，点击 OK，这时原理图中的符号名称自动更改 为 emModel。 c. 选择菜单栏中【 Simulate】 > 【Simulation Setup】。 在弹出的提示框中 为 dataset选择一个文件名： emModel_HB，取消选择 Use cell 作为 dataset的文件名，并取消选择 open the data display when simulation completes，这样扫描结束后不会弹出 DDS视窗。 Copyright 2011 Agilent Technologies 8 Lab： ADS 2011 Workshop d. 选择 Simulate开始仿真。 e. 仿真结束，编辑 Vout输出曲线(扫描频率下基 音输出功率（dbm），如图 现在，输出曲线应该有两条曲线。一条是采用原理图模型输出的功率曲线，另外一 条采用是电磁矢量模型输出的功率曲线。这就是动态模型选择命令的功能。“一个 符号两个模型”——条件是模型在同一个 Cell中。 f. 保存设计。关闭/折叠打开的视窗文件。暂不关闭主窗口。 实验一结束 Copyright 2011 Agilent Technologies 9 实验二： 使用 ADS 2011 实验目的： 建立低通滤波器元件库。 本实验详细介绍了Workspace的框架：包括添加 元件库 libraries，创建 cells， 复制 views， 制作 symbols等。通过这些基本的操作， 熟悉 ADS 2011的Workspaces 和 libraries 工程项目管理系统。 1. 新建一个 Workspace a. 点击工具栏“新建图标”或者【File】—> 【Create a new workspace】，弹出一个向导。 b. 查看向导信息，点击 Next，填写文件名和文件所在 的目录名称，如 lab_2_wrk，将它放在和上一个 lab1 .wrk相同的路径下。 c. 点击 Next，弹出 Add Libraries 提示框， 点击 Add User Favorite Library/PDK，然后选择 lab_1_wrk文件夹下的 lib.defs（如图），点击 Open后返回到提示框，可以看到在这个 Workspace中选择了两个元件库：lab_1_wrk 和 Analog/RF，点击 Next。 这样，lab_2_lib 元件库就可以引用或使用 lab_1_lib的 Cells。 d. 确认元件库的名称是：lab_2_lib，点击 Next。默认的元件库的名称是在Workspace 名称加后缀_lib，当然，也可以定义其它的元 件库名称。 Copyright 2011 10 Agilent Technologies Lab： ADS 2011 Workshop 现在，一个名为 lab_2_wrk的Workspace被创建，除了含有自己的元件库 lab_2_lib外，它也可以使用 lab_1_lib的元件库。 当然，添加 PDK的 步骤 新产品开发流程的步骤课题研究的五个步骤成本核算步骤微型课题研究步骤数控铣床操作步骤 和上述的相似，只是在步骤 c做相应的更改。 e. 选择工艺（ Technology）： Standard ADS Layers (0.0001 mil) 如 图，默认设置选择印制板的设计工艺。 （它还将用来定义元件库的工艺）点击 Next。 注意：在这个Workspace中，若选择添加 PDK，向导中将相应出现 PDK的工艺 （technology）。 f. 在 Summary中， 确认设计信息是 否正确：Workspace名称、library 名称、工艺、文件路径。 g. 点击 Finish，选择 OK，打开新建 的Workspace，lab_2_wrk将在主 窗口中打开，共享的元件库 lab_1_lib将出现在 lab_2_wrk下 （如图）。 DDS和 datasets 不属于 Cell Views， 他们是Workspace的一部分。（只有 Cell Views才能出现在参考 Library 中） 所以 DDS和 datasets可以保存 在任何的 workspace中。 Copyright 2011 Agilent Technologies 11 修改共享的 library 中的 Cells a. 双击 cell或者点击 Cell前的+，展开“lab_1_lib：TEST_LPF_HBamp Cell”，然后打开 schematic。这里可以看到 ADS 2011的新功能：即使在 lab_2_wrk下，照样可以“共享”使用 lab_1_lib cells元件库，这里 lab_1_lib内容同 lab_1_wrk中的完全相同；当然，根据设计的需求，也可 以添加其他Workspace中的元件库 Cells。 接下来，在打开的原理图中修改元件值，并可更改原理图的名称。然后，再打开 lab_1_wrk，确认“lab_1_lib： TEST_LPF_HBamp“中的原理图是否已被改 动。我们花费了一些时间在这里，是为了能够对 ADS2011元件库“共享”功能有 一个较全面的认识。 b. 在打开的 schematic view中 （TEST_LPF_HBamp cell中），更改电阻值为 10 Ohms。 保存并关闭原理图。 c. 在 ADS主窗口， 在 schematic view 点击鼠标 右键（TEST_LPF_HBamp cell中），选择 Rename，在弹出的窗口中把原理图的名称改为 test（如图），然后敲 Enter。 d. 现在，再回到 lab_1_wrk： 主窗口菜单 栏，【File】 —>【 Recent Workspaces】—>， 选择 lab_1_wrk，从而激活这个 wrokspace。 Copyright 2011 Agilent Technologies 12 Lab： ADS 2011 Workshop e. 在 lab_1_wrk中， 展开 Cell：“lab_1_lib：TEST_LPF_HBamp“。 我 们发现： lab_1_wrk的原理图名称由于 lab_2_wrk原理图名称的变化而变化。 f. 打开原理图 test，发现电阻值变成了 10Ohm。 规则：元件库 cells一旦改变，共享这个元件 库 cells的所有Workspace都会做相应的变 化。 因此，在对共享的 cell view进行更改或重命名时，务必确认是否允许共 享此 lib的Workspace做相应的更改。 g. 把电阻值改回至 50 Ohm。 保存，并关闭原理图。 h. 把原理图名称再改为原来的名称 schematic：也可 以通过单击选中 View，再单击一次进行重命名。 i. 回到 lab_2_wrk：【 File】 —> 【Recent Workspaces】 —>lab_2_wrk，同样可以看 到原理图 View，又改回初始状态了。 关于共享元件库： 上述操作说明了共享元件库（libraries）一条重要原则：一旦元件库 cells改变，共享这 个元件库 cells的所有Workspace都会做相应的变化。这对层次设计同样非常重要：若 View名称（schematic， layout， 或 emModel）发生了改变，层次设计就无法找到相 应的子电路。当然，也可以像 PDKs一样，把元件库（libraries）改为只读（read— only），若想更改元件库的内容，只能将它复制到一个新的元件库才能更改。 接下来将进行元件库的复制操作：把 lab_2_wrk中的元件库中的 Cells和 View复制到另 外的一个元件库中。这也就意味着：复制后的元件库中 Cells和 View的更改不会影响到 原来的元件库。这里可以看出，ADS 2011相对于以前版本 ADS给设计者提供了更多的 灵活性。 2. 把一个元件库中的 schematic view 复制到另外的元件库 下一步，我们将介绍如何进行不同元件库的原理图 View复制。当然，layouts， EM setups， 及其他 views的复制操作方法相同，复制操作和共享元件库操作是不同的。 Copyright 2011 Agilent Technologies 13 a. 在 lab_2_wrk 中， 右击 schematic View文 件：“lab_1_lib：TEST_LPF_HBamp”， 选 择 Copy View （如图）。 b. 在弹出的对话框中， 选择 lab_2_lib 作为目 标 library，然后输入一个名称： new_HB_test。 c. 对话框下面一栏，显示当前视窗（The Current View ），也就是复制源 View。 保持 View名称不变 (schematic) ，点击 OK。 d. 这时，在 lab_2_wrk 下出现了一个新的 Cell：“lab_2_lib ： new_HB_test” ，它的前缀显示这个 Cell 在 lab_2_lib中。打开 Cell，查看是否复 制了想要的 View。 虽然，在 lab_2_wrk 中，我们创建了自己 的元件库，并复制了想要的 schematic view， 看似多余的 lab_1_lib 切勿删除， 因为一旦做了删除操作，lab_1_wrk中的 lab_1_lib也会同样被删除。 e. 双击原理图中 LPF_MS元件， 弹出的窗口中显示该元件来自于 lab_1_lib。 复制了 HB test 原 理图，但是并没有复制滤波器子 电路。 这个 LPF元件仍然在 lab_1_lib 中，因而它是个共享 的元器件。 注意： 上述操作中，对于复制后的顶 层 原理图的更改，不会影响到复制源（lab_1_lib library）原理图的变化。但是，倘若对 lab_2_lib library 中 LPF子电路进行更改， lab_1_lib 中的子电路同样会发生变化，因 为它们共享同一个子电路。 现在， 我们将做上述 LPF子电路的复制操作，来消除两个元件库的依赖性。首先，我们 将创建一个文件夹来管理这个子电路，这是 ADS 2011工程管理的又一个方法。 Copyright 2011 Agilent Technologies 14 Lab： ADS 2011 Workshop 3. 为 LPF 设计创建一个文件夹 “文件夹”在 “Workspace ”下（不是在 Lib下），用于管理 cells 或者 Views 。你可以为 designs或 simulation setups等建立自己的文件夹。 a. 右击 lab_2_wrk文件名或者主窗口空白区域，选择 New Folder： b. 键入文件夹名称： LOWPASS_FILTERS 选择 OK，创建了一个文件夹——用 于管理Workspace中的设计文 件。现在，在 Lab_2中，你有 了一个文件夹。 4. 从一个元件库中复制一个 Cell到某个文件夹下的元件库。 a. 如图，右击 “lab_1_lib： LPF_SCH”， 选择 Copy Cell——复制一个具 有微带元件的 ADS低通滤波器设计。 b. 弹出对话框， 勾选复选框 Include hierarchy (推荐) ，并做如下设置：  目标元件库： lab_2_lib； 选择所属的文件夹： LOWPASS_FILTERS  键入复制后产生的新 Cell 的名称： LPF_SCH_ads。点击 OK。 Copyright 2011 Agilent Technologies 15 上述操作完成了元件库的复制——直接复制到一个文件夹中，并且这种操作得到的 Cells 独立于复制源，它的更改不会影响到原来的元件库。打开文件夹，查看其包含的内容。 a. 展开 LOWPASS_FILTERS 文件夹，查看产生的 新 Cell，它的前缀是 lab_2_lib，也就是说现在这 个设计是在 lab_2_lib 元件库下了，现在你可以对 这个元件库进行调整、修改了。复制到文件夹下更 加方便于文件的管理，不想复制到文件夹也是可以的（不推荐）。 5. 修改原理图和创建新的 Symbol View 接下来，我们将对复制来的设计进行修改，并为它创建一个新的 Symbol View 代替原来的 Symbol。这些操作之后，我们就可以使用这个独立的子电路了。 a. 打开文件夹中的 schematic ，删除两端的 Term和地，然后删除 S- parameter控制器。 操作后的电路如图所示，保存电路，关闭此窗口。 b. 打开文件夹中的 symbol View， 这个符号像是它的印制板图的缩微图片， 但是我们不能从这个 Symbol上直接看出它的准确结构。 c. 删除窗口中的图形： Ctrl—A (全部选中)或者用鼠 标左键拖拽一个大的矩形框全部选中窗体中的图形 和端口，按 Delete。接下来，我们将创建一个新的 Symbol。 d. 点击左侧面板中 Open Symbol Generator 图标 （右图）。 Copyright 2011 Agilent Technologies 16 Lab： ADS 2011 Workshop e. 弹出窗口中，选择 Copy/Modify 页， 在符号类别中，使用键盘上的箭头按 键，去选择 Filters—Lowpass 页（下图）。 选择 Bessel 滤波器图标，点击 OK。 现在，我们就很容易的看出这个符号所代替子电路的功能。 f. 保存，关闭 symbol View。 下一步，我们将复制一个 emModel View到一个文件夹中。这样，文件夹中将 包含两个 Cells，它们有自己的 Symbol。 我们会从这些操作中进一步熟悉 Cell和 View的复制，搞明白如何利用参考元件库的 Cell和 View， 如何利用 文件夹管理工程。 这些步骤让我们更好的了解 ADS2011的新功能。 6. 复制 EM model view 和 symbol View至文件夹 a. 在主窗口里，左键拖拽 emModel view (LPF_MS cell) 至 folder，在弹出的提示框中 选择 Copy（如图）。 被复制的文件来自于 Lab 1_lib，是 Momentum设计文件。 注意： Views (models， schematics，layouts) 不能直接复制/移动到文件夹根目录下 – 它们必须 包含在文件夹下的 Cells中。Symbols与它们不 同，它相对独立，并且能够直接复制/移动到文件 夹根目录下。 b. 在弹出的 Copy Designs 提示框中， 选择 lab_2_lib 作为存放复制文件的 目标元件库。默认的 Cell名称为 Cell_1，一会我们将更改 Cell名称。 Copyright 2011 Agilent Technologies 17 c. 在复制 Design时，选择 lab_2_lib 作为目标元件库，然后输入一个新 的 Cell名称：LPF_EM_mom，然 后点击 OK。 注意到上述提示框中没有“目标 文件夹选项”，这是因为复制单 个 View不需要设置文件夹选 项，而当需要复制整个 Cell时 候，则会出现 “目标文件夹选项”。 注意查看新复制的 View在Workspace中的位置。现 在，lab_2_wrk应该有三个 lab_2_lib 的 cells (其中一 个 在文件夹中) 还有三个共享的 lab_1_lib 的 cells。下一 步，我们将为 LPF_ EM model复制一个 Symbol，然 后 用 design kit创建一个 LPF。我们的目的是在文件夹中 创 建三个 LPF Cells，并且有各自不同的 Symbols。 d. 选择新建的 cell (LPF_EM_mom) ，并把它 拖拽到文件夹中，在弹出的提示框中选择 Move。 e. 拖拽 lab_1_LPF_MS 中的 symbol View至 文件夹中 LPF_EM_mom cell，在弹出的提示框中选择 Copy（如图）： Copyright 2011 Agilent Technologies 18 Lab： ADS 2011 Workshop 现在，我们在元件库 lab_2_lib下已经创建了两个 LPF Cells。值得注意的是，文件夹只 是Workspace的一种文件管理方式，它不是元件库（lab_2_lib）的一部分。接下来， 我们将在文件夹下增加两个 demo design kits (PDKs) ，创建最后一个滤波器和 Symbol。 7. 在Workspace中添加 PDK元件库 这两种 PDKs 采用工艺 (不同的印制板属性、 精度和单位) 不同于 lab_2_lib 。我们可以 称之为多工艺（multi—technology）。接下来的实验，我们只局限于原理图的仿真，采 用多工艺（nested technology）的电磁仿真将在第三部分实验提到。 a. 主窗口中， 选择 【File】 —> 【Manage Libraries】 ，在弹出的提示框中选择 Add Design Kit from Favorities。 b. 在弹出的元件库管理对话框中，选择 Site Libraries / Demokit ，在弹出的 提示框中选择 Yes。 c. 用同样的方法选择 DemoKit_Non_Linear。 d. 选择 Close，关闭添加元 件库对话框。 e. 在主窗口下，选择【 File】 —>【 Manage Libraries】，元件库管理对话 Copyright 2011 Agilent Technologies 19 框弹出后，展开 three lib.defs 文件（如图）。观察元件库的Mode， PDKs是只读模式， lab_1 和 lab_2 libs 是共享模式。 f. 关闭元件库管理对话框。下一步，将使用这两个 demo kits中的元件创建 最后一个滤波器。 8. 用 Demo PDK元件创建一个低通滤波器 a. 在主窗口中，选择 LOWPASS_FILTERS 文件夹，右击选择 New Schematic(直接 在文件夹中创建 Cell和原理图。注意：原 理图等 Views文件必须在 Cell中)。 b. 在弹出的对话框中，选择元件库名称 lab_2_lib将默认的 Cell名称（cell_1）改 为 LPF_PDK_demo，去除 Options复选 框，选择 OK。 c. 原理图设计窗口打开，demo kit 分类库面 板出现在原理图的左侧。 d. 在分类库面板下拉框中，选择 Demokit_Non_Linear， 选择元件，绘制 原理图：设置 C1 & C2属性 C=0.25 pF ， 设置电感 L1属性 L=2.2 nH nturns= 3 。 注意：原理图中的元件添加旋转轴，选中元 件，用鼠标旋转绿色的轴就可以实现元件的 旋转。 e. 插入两个端口 P1、P2。 f. 插入 DEMO_NETLIST_INCLUDE，这个元件与网络表和仿真相关。 Copyright 2011 Agilent Technologies 20 Lab： ADS 2011 Workshop g. 保存并关闭原理图。接下来将创建一个符号 Symbol。 Copyright 2011 Agilent Technologies 21 9. 为 PDK 滤波器创建一个 Symbol a. 在主窗口菜单栏点击 Symbol图标，创建一个 Symbol View。 b. 在弹出的新建对话 框中选择 lab_2_lib ，并找 到要创建 Symbol 的“Cell： LPF_PDK_demo” ，然后点击 OK。 Copyright 2011 22 Agilent Technologies c. 当 Symbol设计窗口打开 ，Symbol Generator（符号生 成器） 同时也会打开，这里我们不使用这个工具，选择 Cancel ，关闭这个窗口。 d. 在设计窗口中，创建一个 Symbol，并添加两 个端口，也可以添加一些文字说明： 【Insert 】—> 【Text 】。这里，我们简单 地画了一个矩形框和两个端口（右图），创 建一个和其他两个 LPF不同的符号。 e. 保存设计，并关闭 Symbol View。 f. 在Workspace结构树下，展开文件夹和 Cells。如右图。 这是管理元件库和 Cells的一种方法，每个不 同的设计在一个单独的 Cell中，每个 Cell含有 各自的 Symbol、schematic及 emModel。 Lab： ADS 2011 Workshop 注意： 另一个管理三个不同滤波器方法是：一个 Cell包含三个不同的滤波器设计 Views，这些 Views共享同一个 Symbol。仿真的时候，保持 Symbol不变，更换不同 的滤波器 View，即可以实现对三个不同滤波器的仿真。但是，独立 Cell管理不同设计使 得子电路独立，便于使用；独立的 Symbol Views便于我们辨认。这两种方式在 ADS 2011 都是可行的，你可以根据自己的喜好进行选择。 接下来，最后一步我们将在一个原理图中使用muti—technology。使用不用 PDK 元件，使用同名不同 technology的元件。 10. 创建一个 PDK 电阻模型： R 注意： 这个新的 cell 没有在 LPF 文件夹中。 a. 在主窗口中，点击原理图图标（右图），创建一个新的 schematic。 b. 在对话框中，选择 lab_2_lib作为元件库名称， R作为 Cell名称，然后点 击 OK。 c. 下拉菜单中选择 DemoKit 分类库面板， 创建电阻设计（如图），切勿忘记插入 DemoKit Include 元件。 d. 保存并关闭窗口。 e. 在主窗口中，点击 Symbol图标（右图），创建符号。 f. 选择 lab_2_lib作为元件库名称， R作为 Cell名称，点击 OK。弹出符号 产生器（ symbol generator）对话框， 在 Lumped Components 页中选 择电阻图标 R ，然后添加文字“Demo_Kit”。（如下图） Copyright 2011 Agilent Technologies 23 g. 保存并关闭 Symbol View。现在我们设计了一个采用不 同工艺的电阻 R。—— 下面，我们将调用这个电阻进行 电路仿真。 11. 应用多工艺技术、同名不同工艺的元件 a. 打开“ lab_2_lib： new_HB_test” 中 schematic View，删除其中的滤波 器元件。 b. 插入文件夹中 LPF_PDK_demo滤波器：拖拽 LPF_PDK_demo Cell中 symbol View至 new_HB_test 原理图窗口中，如下图。（不用担心元件 图标的大小，它的尺寸可以更改） Copyright 2011 Agilent Technologies c. 在主窗口中，用同样的方式插入 R （demo Kit），放置在原理图放大器的后 面。 24 Lab： ADS 2011 Workshop d. 保存。 设计好的原理图应该如下图所示： 这个测试平台有两个同名称、不同元件 库的电阻 R，还有一个滤波器元件，它 来自另外的一个 PDK元件库。 现在，我们将对上面的设计进行原理图仿真。 e. 选择 【Simulate】 —> 【Simulation Setup】 ，选择默认设置，如图。点击 Simulate。 (仿真结束 DDS将会自动弹 出)。 注意： 忽略关于电容短路的仿真状态信息， 这是由于在滤波器设计中，我们把电容一端 短接地的缘故。 f. 在弹出的 DDS窗口中，使用 plot 命令画 出 Vout（dBm方式显示），仿真结果应 该如右图所示。 g. 保存并关闭设计窗口，保持主窗口打开。 h. 展开 Workspace 结构组织图，你的 wrokspace应该含有如图所示的 Cell、 文件夹及 DDS 文件。 Copyright 2011 Agilent Technologies 25 这个设计中，我们使用了不同 PDKs工艺，同一名称（R）不同工艺的元件。而同一 个原理图采用不同工艺，采用同一名称（R）不同工艺的元件在以往 ADS中是不能实 现的。 学会了工程文件的转换后（project转换 为 Workspace），你就可以在 ADS2011 中 继续你的设计。ADS2011项目管理结构 会 使你的设计工作更加的高效。 接下来，我们将学习一些元件库的注意事 项，并在第三个实验中介绍 ADS 2011的 电 磁仿真。 实验二结束 有必要的话，课余时间可以参考下面 的 注意事项 软件开发合同注意事项软件销售合同注意事项电梯维保合同注意事项软件销售合同注意事项员工离职注意事项 。。。 ABOUT： 复制整个元件库 元件库必须在 wrokspace里，因而复制元件库时，必须确定一个 wrokspace。  主窗口下， 点击【File】 > 【Copy Library】 ，弹出复制对话框，点击下 拉菜单，选择可复制的元件库。 选择包含元件库的Workspace，并为 复制后的元件库起名字，点击 Ok完成 复制，点击 Cancel取消这个操作。我 们这里暂不做这个操作。  点击 Cancel回到主窗口。比较复制整 个的 Library和一个 Library Cell不 同。可以操作一下，查看它们的区别。 ABOUT： 为设计工程创建新的元件库 你可以创建一个 LPF元件库，让它包含三个低通滤波器。这是设计工作的一个基本操 作。下面我们就尝试这个操作： Copyright 2011 26 Agilent Technologies  在 lab_2wrk， 选择【New】—> 【 Library】，在弹出的对话框中选择 Library 。设置元件库的名称 Lab： ADS 2011 Workshop lab_2_LPF_lib和Workspace，点击 Finish。  把三个 LBP的 Cells全部复制到新建的元件库中。打开 Manage Library更改元 件库的属性为 Read Only ：右击元件库，选择 change library Mode为 Read Only。  在另外一个 wrokspace中， 可以添加这个新的元件库及其它想要的元件库。– 这 里，需要添加 the nonlinear demokit 元件库，因为新建的元件库调用了 the nonlinear demokit中的元件。  这样，添加的元件库的设计文件就可以使用 了。可以 通过主窗口的拖拽操作，也可以通 过原理图设计中的 Component Library。 Copyright 2011 Agilent Technologies 27 实验三： 使用 ADS 2011 EM 在第三个实验中，我们将介绍 ADS2011电磁仿真 界面的一些基本操作。包括工艺参数文件的设置、增加 板层、覆铜、打孔、网络分割及仿真。当然，在这个实 验中会用到先前讲到的一些操作，也需要实验者有一定 的板图设计经验。 1. 用 标准 excel标准偏差excel标准偏差函数exl标准差函数国标检验抽样标准表免费下载红头文件格式标准下载 图层创建 lab_3 Workspace a. 主窗口中，选择【File】 –> 【create a new workspace】 ，选择创建 Workspace的路径为 Home路径，名称为 lab_3_wrk。 b. 选择元件库为 Analog/RF library，选择第一种工艺 Standard ADS Layers 0.0001 mil resolution， 选用默认的元件库名称： lab_3_lib。 选择 Finish，lab_3_wrk打开。 c. 主窗口中，选择 【Options】 >【 Technology】 > 【Technology Setup 】，查看并修改 lab_3_lib 元件库的属性：使用标准或者默认的 ADS layer，选择 Layout Units页，更改解析度为 1000，点击 OK，完成 对工艺设置的更改。 Copyright 2011 Agilent Technologies 28 Lab： ADS 2011 Workshop PDK工艺设置注意事项：对于 PDK， 在创建向导中只选择 PDK Layer 工艺即可，不用 做任何设置。 2. 在 Cell 中创建一个 Layout a. 在主窗口中，点击 Layout图标，在弹出的新建提示 框中，分别键入元件库名称：lab_3_lib，Cell名 称： MOM_design，View默认名称为 Layout。 3. 图层设置与板图设置 a. 板图设计窗打开， Layers Preferences弹出。 Preferences 允许你控制哪些图层的显 示和选择。它可以更改板图层的颜色、 是否可见等，但是它不能改变 Workspace中的工艺文件设置。而且这 些设置也只是对当前板图有效。 b. 这个窗口可以一直开着。 c. 在板图窗口， 点击【 Options】 > 【Preferences】，打开板图设置。 d. 观察各个设置页，发现除 Layout Units与 ADS2009不同之外，其它页的 参数设置与 ADS2009相同。这是因为 ADS2011中，单位和解析度的设置 在元件库工艺中，在创建Workspace时我们已经做了介绍。 e. 你可以设置板图的参数，亦可将设 置好的参数文件（.prf）复制到其 Copyright 2011 Agilent Technologies 29 它的Workspace中，这样，就不用每次创建Workspace都要设置这些参 数。这里我们点击 Cancel，不做更改。 4. 工艺 – 图层定义 检查Workspace中板图的参数设置、图层参数设置后，我们看一下 lab_3_lib 元件库的 图层设置（Layer Definition），并创建一个简单的结构设计，进行电磁仿真。 a. 在板图设计窗口中，选择【 Options】 > 【Technology】 > 【Layer Definitions】。 b. 弹出窗口中显示为 lab_3_lib元件库的工艺 设置。显示的板图是 ADS标准的板图设计图层，也是我们在创建 Workspace时候选择的参考设置。 c. 点击： Show Other Technology Tabs，你将会看到更多的技术工艺设 置。可以增加图层、purposes、单位等，这些设置的更改保存后仅能被 lab_3_lib元件库使用。 . 选择 Cancel ，我们不做任何更改。 d Copyright 2011 Agilent Technologies 30 Lab： ADS 2011 Workshop 现 Copyright 2011 Agilent Technologies 31 在，我们搞明白了图层、板图参数的设置以及元件库图层的设置。当然，ADS2009的 5. 定义工艺材质： 基板和导电层 任何时候，你可以在主窗口或者 Layout设计中更改工艺文件，为 EM 仿真设 窗口，点击 【Options】 > 【Technology】 >【 Material b. 点击 Add Dielectric 击 Add From Database ，选择 Alumina ，并保持其默认值， 点击 e. 择 Conductors 页，点击 Add Conductor。添加了默认名称为 d，点击 板图设置文件在这里也将不能使用，因为新版本板图设计工艺是参考元件库的工艺。下 面，让我们开始做电磁仿真吧。 计添加 材料 关于××同志的政审材料调查表环保先进个人材料国家普通话测试材料农民专业合作社注销四查四问剖析材料 。 a. 板图设计主 definitions】。在弹出的对话框中，发现介质材料页是空的。 ，添加了默认名称为 Dielectric_1的介质材料，用鼠 标选择实部数值，更改为 6 ，如图。点击 Apply，这样就添加了一种基板 材料。 c. d. 点 Apply。这样，创建的两种介电材料如上图所示。 选 Conductor_1的导电材料。点击 Add From Database，选择 Gol OK，添加完毕，点击 Apply。这样，就创建了两种导电材料，如下图。 f. 点击 Ok。我们为板图设置了两种介质材料和两种导电材料，同时这些设置 也添加到了 lab_3 元件库工艺中。 接下来，就用定义的材料设计简单的设计。 6. 画两条线一个过孔 a. 在板图设计窗口中，做如下简单的板图设计：两个图层上分别做一个矩形， 另一个图层做一个圆，它们的参数值如图所示，单位mil。注意修改图形所 在的图层。 Copyright 2011 32 Agilent Technologies b. 完成后，保存板图。过会，我们将为设计添加 pins/ports 。 7. 打开电磁扫描设置窗口 a. 在板图设计窗口中，点击 EM Simulation Setup 图标 ，打开设置对 话框。 (如右图) b. 在 Substrate 和 Ports 选项后各有一个 黄色的警示图标，提醒你要对基板和端 Lab： ADS 2011 Workshop 口进行设置。快速的浏览 setup overview。 接下来，将设置基板及定义端口。 8. 添加基板 注意： 你可以从以往的Workspace中复制 substrate直接使用。为了熟悉这 个操作过程，我们将添加一个新的基板。 a. 在板图设计窗口，点击 Substrate Editor 图标，选择 OK， 再点击 OK一 次，选择默认的基板名称 Substrate1 ，这时打开设计窗口。 Copyright 2011 Agilent Technologies b. 这是一个默认图层的 3D 基板 View，这个基板有一个导电层，一个介质 层，还有默认的边界条件。新建基板都是从这一步开始的。查看右侧的信息 栏，它告诉你怎样进行选择、添加、删除项目。 接下来将引导你设置叠层，映射导电层及过孔，使用元件库工艺材料： 33 9. 定义带状导线材质为：Gold a. 点击设置窗口中的带状线图形，带状线轮廓被选中，相应的右侧显示带状线 的属性。 b. 设置图层（Layer）名称及材质（material），在下拉菜单中选择 cond Material = Gold。 c. 点击设置框后的“…”按键，将弹出已经设置好的基板材料。(可以看到在 Momentum仿真中，可以设置金属材料的粗糙度) 这就是电磁仿真中的基 板编辑时工艺的设置方法，你也可以做高级设置。当然，要是添加了 PDK 元件库，将会出现 PDK元件库中的材料。点击 Cancel，不做材质定义回 到上一级设置对话框。 10. 添加一层基板 a. 右击 Alumina 基板，选择 Insert Substrate Layer Above，这时就有两个 Alumina层 了。 b. 在右侧把材质 Alumina更改为 Dielectric_1 材料 (在元件库工艺中已设 置)。 设置厚度（Thickness）为 30 mils。 Copyright 2011 Agilent Technologies 34 Lab： ADS 2011 Workshop 11. 映射过孔 ，导体沉入基板。 a. 选择 Dielectric_1 ，右键选择 Map Conductor Via，过孔层自动产生。在 右侧的设置栏更改过孔材料为 PERFECT_CONDUCTOR， 如图。这里我们 定义了一种过孔层类型，也可以再添加其他的过孔层类型。不同类型的过孔 在