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nullDOE Team 6 How to control ASM accuracy, cell gap size, & gap uniformity (Final)Cell / DOE Team 6 徐盟貴 藍光宏 王世明 廖英智 洪瑞基 呂文禮 童鐘慶 2001.10.31 DOE Team 6 How to control ASM accuracy, cell gap size, & gap uniformity (Final)組員簡介組員簡介姓 名 學 歷 職 稱 徐盟貴 研究所 副理 洪瑞基 研究所 高級工程師 藍光宏 研究所 高級工程師 呂文禮 研究所 高級工程師 廖英智 研究所 高級工程師 王世明 研究所 高級工程師 童鐘慶 研究所 工程師專題彙總表專題彙總表Topic: 1.How to control cell gap to target value. (X5) 2.How to control the cell gap uniformity. (X5) 3.How to control the ASM accuracy. (X5) X5: 製程能力不足之老問題品質問題現況 分析 定性数据统计分析pdf销售业绩分析模板建筑结构震害分析销售进度分析表京东商城竞争战略分析 品質問題現況分析Yield loss around 5%缺點現象示意圖缺點現象示意圖缺點現象正視圖缺點現象示意圖null為何Cell Gap 不易控制實驗因子篩選表實驗因子篩選表*1.凡是屬於母數之小要因請打其餘打。 *2.技術力篩選請用符號表示 :＋（強） △ (中)　 －（弱） *凡屬於技術力強之母數因子優先列為實驗因子並賦予代號 H2N型直交配置 2N型直交配置 注意: 兩水準是否符合兩極化原則 因子水準對照表 點線圖 L16 直交配列表L16 直交配列表樣本提示卡樣本提示卡 DOE for Cell Gap Target Value & Uniformity Chip ID: 7384HC, 7384NC, 7384ND 實驗次序: 16 實驗編號: 16 實驗水準次序 : F2 A2 J2 B1 C2 D1 K2 H1 I2 L2 實驗數據 數據量測 – Vernier數據量測 – Vernier數據量測 – Cell Gap數據量測 – Cell Gap變異數分析 – Vernier變異數分析 – Vernier變異數分析 – Cell Gap變異數分析 – Cell Gap變異數分析 – Gap Uniformity變異數分析 – Gap Uniformity交互作用回應圖交互作用回應圖Gap Uniformity: 本回應圖分析之交互作用為 AF 貢獻率為 17.1617% 分子組合比較表特性質F1 : 0.0457F2 : 0.05365F2 : 0.0399312 A 因子3. 交互作用回應圖F1 : 0.04283Cross TableCross Table3N型直交配置因子水準對照表 &實驗常數3N型直交配置點線圖 1 A2 H3e4eL9 直交配列表L9 直交配列表數據量測 – Vernier(2)數據量測 – Vernier(2)數據量測 – Cell Gap(2)數據量測 – Cell Gap(2)變異數分析– Vernier(2) 變異數分析– Vernier(2) 變異數分析 – Cell Gap(2) 變異數分析 – Cell Gap(2) 變異數分析 Phase II (L.S.D.)– Cell Gap(2)變異數分析 Phase II (L.S.D.)– Cell Gap(2)非常顯著因子(**) : A & 顯著因子(*) : H 藉由LSD找出操作Window LSD = t (Φe, α) √(2Ve/n) LSD (A) = t (4 , 0.01) √ (2*0.000066/3) = 0.0305 LSD (H) = t (4 , 0.05) √ (2*0.000066/3) = 0.018△(A1與A2)為0.02733 < LSD (0.0305) ……..A △(H1與H2)為0.006 < LSD (0.018)………..H變異數分析 – Gap Uniformity(2) 變異數分析 – Gap Uniformity(2) 實驗前後操作條件及改善成果實驗前後操作條件及改善成果製程: Cell Gap Uniformity Control 操作條件對照表再現性結果確認再現性結果確認製程: Cell Gap Uniformity Control 再現性實施期間:10/14~10/27 (Cell Input Date) 再現性生產批數紀錄 生產總數量 :8337Cs 再現性品質紀錄(4 up)Current Situation – VernierY direction shiftX direction shiftCurrent Situation – VernierCurrent Situation - Cell GapCurrent Situation - Cell GapCell Gap to 4.8改善成果– Gap Uniformity改善成果– Gap UniformityDOE 實驗結論DOE 實驗結論ASM accuracy was affected by UV length(B), air press pressure(C), and jig press pressure(F). Cell gap & uniformity was related with spacer density(A) and jig oven temperature(H), beside that, end seal jig pressure(J) also effect the gap size. After adjusting the key factor, both the SPC control chart and panel defect ratio were getting better. The injection hole gap mura was solved by reducing the air press pressure and increasing the spacer density.