玻璃作业ITO导电玻璃,采用磁控溅射沉积成膜,早期通过氧化反应而成膜,其主要特点是:电阻较高,表面不需抛光处理,制作流程:基片玻璃→镀前清洗→镀SiO2膜→镀ITO膜。在瓷质平板ITO靶上进行直流磁控管溅射沉积,成本低方法可靠,是最常用的技术,但由于有其局限性,可以考虑采用旋转柱状磁控管和旋转柱状瓷ITO溅射靶技术,提高镀膜质量,同样这种技术也有其限制,从而使其推广应用不能进行。生物活性玻璃镀膜技术由于其特有的优势,也可能成为将来镀膜新技术的发展方向。在玻璃基片上镀制ITO-Ag-ITO膜时,随着Ag膜厚度的增加,透过率急...