首页 次磷酸钠化学镀铜工艺的研究

次磷酸钠化学镀铜工艺的研究

举报
开通vip

次磷酸钠化学镀铜工艺的研究 第 40 卷第 3 期 2011 年 3 月 应 用 化 工 Applied Chemical Industry Vol. 40 No. 3 Mar. 2011 收稿日期:2010-12-01 修改稿日期:2010-12-27 作者简介:朱绒霞(1965 -) ,女,陕西武功人,空军工程大学教授,从事材料的腐蚀与防护方面的研究。电话:029 - 84786548,E - mail:zhx40@ sohu. com 次磷酸钠化学镀铜工艺的研究 朱绒霞 (空军工程大学 理学院,陕西 西安 710051) ...

次磷酸钠化学镀铜工艺的研究
第 40 卷第 3 期 2011 年 3 月 应 用 化 工 Applied Chemical Industry Vol. 40 No. 3 Mar. 2011 收稿日期:2010-12-01 修改稿日期:2010-12-27 作者简介:朱绒霞(1965 -) ,女,陕西武功人,空军工程大学教授,从事材料的腐蚀与防护方面的研究。电话:029 - 84786548,E - mail:zhx40@ sohu. com 次磷酸钠化学镀铜 工艺 钢结构制作工艺流程车尿素生产工艺流程自动玻璃钢生产工艺2工艺纪律检查制度q345焊接工艺规程 的研究 朱绒霞 (空军工程大学 理学院,陕西 西安 710051) 摘 要:用次磷酸钠取代传统化学镀铜中的甲醛作为还原剂,研究了化学镀铜的基本工艺,揭示了络合剂(酒石酸 钾钠)用量、次磷酸钠用量对铜沉积速度的影响。确定了最佳工艺条件为酒石酸钾钠质量浓度 15 g /L,次磷酸钠质 量浓度 30 g /L,镀液的 pH值为 11 左右,温度 65 ℃。 关键词:ABS塑料;化学镀铜;次磷酸钠 中图分类号:TQ 153. 14 文献标识码:A 文章编号:1671 - 3206(2011)03 - 0457 - 02 Study of the electroless copper plating processes using sodium hypophosphite ZHU Rong-xia (College of Science,Air Force Engineering University,Xi’an 710051,China) Abstract:Sodium hypophosphite is used as the reductant of the electroless copper deposition instead of traditional reductant-formaldehyde and the electroless copper plating processes is studied. It revealed the influence of the dosage of chelator (potassium-sodium tartrate)and sodium hypophosphite on the rate of copper deposition. The best technology condition is that the concentration of potassium-sodium tartrate is 15 g /L,sodium hypophosphite is 30 g /L,and the pH is 11,the temperature is 65 ℃ . Key words:ABS plastic;electroless copper plating;sodium hypophosphite 塑料电镀制品质地轻巧、造型优美、光彩夺目, 加上更新换代快,又兼具工艺美术性等优点,在产品 美化和翻新上起了重要作用。在汽车内外部件、仪 关于同志近三年现实表现材料材料类招标技术评分表图表与交易pdf视力表打印pdf用图表说话 pdf 零件与外壳、五金器具、建筑配件、工艺美术品、灯 具、乐器和珠宝装饰等方面都获得了广泛的应用,在 国内外愈来愈受到人们的重视[1]。目前在工业上 应用较为普遍的化学镀铜方法仍是以甲醛(HCHO) 为还原剂,EDTA 和酒石酸钾钠为单独或混合络合 剂。然而,甲醛对人体具有明显的危害,已被世界卫 生组织确定为致癌和致畸形物质,是公认的变态反 应源,也是潜在的强致突变物之一,同时易造成环境 污染,因此采用非甲醛还原剂一直是化学镀铜的研 究热点[2]。次磷酸钠化学镀铜液的稳定性和沉积 速率均高于甲醛镀液[3]。本文以次磷酸钠取代甲 醛作为化学镀铜的还原剂,研究了化学镀铜工艺中 还原剂用量及酒石酸钾钠络合剂用量对铜沉积速率 的影响。 1 实验部分 1. 1 材料、试剂与仪器 氢氧化钠、磷酸钠、碳酸钠、络酐、硫酸、盐酸、二 氯化锡、氨水、硝酸银、硫酸铜、酒石酸钾钠、次磷酸 钠均为分析纯;水为去离子水。 BS210S型分析天平(赛多利斯) ;双孔恒温水 溶锅。 1. 2 实验方法 实验材料选用 ABS塑料,做成尺寸约为 30 mm ×20 mm ×2 mm试样。试样先经过打磨、超声波清 洗、去油、粗化、敏化、活化预处理,然后,在不同组成 的化学镀铜液中进行化学镀,通过铜沉积速率的比 较,得到化学镀铜液的最佳组成。 1. 2. 1 塑料试样预处理 化学镀铜预处理工艺流 程为打磨试样→超声波清洗→去油→粗化→敏化→ 活化,各步之间用去离子水冲洗。 1. 2. 1. 1 打磨试样 试样用 400,800,1 000, 应用化工 第 40 卷 1 200#金相砂纸逐级打磨至表面光滑。 1. 2. 1. 2 超声波清洗 去除塑料表面的污物。用 丙酮进行超声波清洗 10 min,温度 25 ℃。 1. 2. 1. 3 去油处理 去除塑料表面的油污。其工 艺条件为:40 g /L NaOH,30 g /L Na3PO4·12H2O, 20 g /L Na2CO3,温度约为 65 ℃,时间为 5 min。 1. 2. 1. 4 粗化处理 使塑料表面呈微观的粗糙状 态,以增大表面积并提高表面的亲水性。工艺条件 为:400 g /L CrO3,150 mL /L H2SO4,温度约为 65 ℃,时间为 5 min。 1. 2. 1. 5 敏化处理 使粗化的塑料表面吸附一层 具有较强还原性的 Sn 离子,用以还原活化液中的 Ag 离子。工艺条件为:20 g /L SnCl2·2H2O,40 mL/L HCl(浓) ,温度为 28 ~ 30 ℃,时间为 5 min。 1. 2. 1. 6 活化处理 是塑料表面沉积上一层 Ag 微粒。工艺条件为:3 g /L AgNO3,滴加 6 mol /L 氨 水溶液至沉淀溶解,温度为 28 ~ 30 ℃,时间为 20 min。 从活化液中取出塑料试样后,用去离子水冲洗, 晾干。 1. 2. 2 化学镀铜 通过查阅大量的文献[4-6],对多 种化学镀铜工艺配方进行分析,并通过大量实验,研 究了以次磷酸钠为还原剂的镀液主要组成对化学镀 速率的影响,得到了较低温度下于 ABS 塑料表面化 学镀铜液的基础配方为:化学镀铜液主要组成为硫 酸铜 20 g /L,酒石酸钾钠 15 g /L,次磷酸钠 30 g /L。 镀液 pH值为 11 左右,温度为 65 ℃。 1. 2. 3 沉积速率 用电子天平称量试样化学镀前 的重量 w1 和化学镀后重量 w2,△w 为试样增重。 按照下式计算化学镀铜的沉积速率 v(mg /min) ,t为 化学镀铜的时间,计算公式如下: v =(w2 - w1)/ t =△w / t 2 结果与讨论 2. 1 次磷酸钠加入量对铜沉积速率的影响 按照实验方法,固定其它试剂用量,分别测定次 磷酸钠加入量对铜沉积速率的影响。化学镀时间分 别为 5 min 和 10 min。实验结果显示(见图 1) ,无 论在化学镀 5 min,或者 10 min时,随着次磷酸钠用 量的增加,表面镀层沉积速率呈现先增加后降低的 趋势。次磷酸钠用量为 30 g /L 时,沉积速率呈现最 大值。故选用次磷酸钠用量为 30 g /L 为最佳反应 条件。 图 1 次磷酸钠加入量对铜沉积速率的影响 Fig. 1 The influence of sodium hypophosphite amount on the rate of copper deposition a. 5 min;b. 10 min 2. 2 酒石酸钾钠加入量对铜沉积速率的影响 按照实验方法,固定其它试剂用量,分别测定酒 石酸钾钠加入量对铜沉积速率的影响。化学镀时间 分别为 5 和 10 min。实验结果显示(见图 2) ,无论 在化学镀 5 min或者 10 min 时,随着酒石酸钾钠用 量的增加,表面镀层沉积速率呈现先增加后降低的 趋势。酒石酸钾钠用量为 15 g /L 时,沉积速率呈现 最大值。故选用酒石酸钾钠用量为 15 g /L 为最佳 反应条件。 图 2 酒石酸钾钠加入量对铜沉积速率的影响 Fig. 2 The influence of potassium-sodium tartrate amount on the rate of copper deposition a. 5 min;b. 10 min 2. 3 化学镀铜原理 塑料化学镀铜预处理的主要步骤是敏化处理和 活化处理。粗糙的塑料表面在敏化液中吸附一层 Sn2 +后,由于活化液中有 Ag +的存在,且 φ(Sn4 + / Sn2 +)= 0. 151 V < φ(Ag + /Ag)= 0. 799 6 V,因此, 塑料表面发生氧化还原反应式(1) ,将 Ag +还原为 金属 Ag而吸附在塑料表面,这些 Ag 微粒将成为铜 膜形成的结晶中心。 Sn2 + + Ag +→Sn4 + + Ag (1) 在碱性溶液中,以次磷酸钠作为还原剂进行化 学镀铜是电化学原理[6],可以用一个总的氧化还原 反应方程式(2)来表示: (下转第 461 页) 854 第 3 期 李风起:蒙脱土负载三氯化铁氧化苯偶姻制备苯偶酰 (120 ℃活化)为氧化剂在回流温度下氧化安息香, 反应时间 4 h,考察氧化剂的用量对反应的影响,实 验结果见表 3。 表 3 氧化剂用量对苯偶酰产率的影响 Table 3 The effect of oxidant amount on yield of benzil n(安息香)∶ n(氧化剂) 产率 /% FeCl3·6H2O氧化 FeCl3 /MMT 氧化 1∶ 3 90. 8 93. 0 1∶ 2 87. 6 92. 3 1∶ 1 85. 9 91. 8 2∶ 1 76. 5 84. 7 结果表明,蒙脱土负载三氯化铁作氧化剂较单 一的 FeCl3·6H2O为氧化剂氧化苯偶姻制备苯偶酰 具有氧化剂用量少,反应收率高的特点。这可能是 由于蒙脱土层间的部分过渡金属阳离子(如 Cu2 +, Fe3 +等)通过单电子转移反应使安息香氧化,与三 氯化铁具有协同作用,从而增强了氧化活性,提高了 苯偶酰的收率。 2. 4 氧化时间对反应的影响 分别以 FeCl3·6H2O 和 FeCl3 /蒙脱土 K10 (120 ℃活化)为氧化剂,安息香与氧化剂的摩尔配 比为 1 ∶ 1,在回流温度下氧化安息香,考察反应时间 对反应的影响,实验结果见表 4。 由表 4 可知,反应时间过短,氧化反应不完全; 特别是将氧化剂负载蒙脱土 K10 上时,其活性位密 度低,其氧化能力不强。但是负载型氧化剂选择性 高,通过延长时间可获取更多的目标产品。 表 4 反应时间对苯偶酰产率的影响 Table 4 The effect of reaction time on yield of benzil 反应时间 /h 产率 /% FeCl3·6H2O氧化 FeCl3 /MMT 氧化 1. 0 80. 3 75. 2 2. 0 84. 6 80. 5 3. 0 85. 4 86. 1 4. 0 85. 9 91. 8 3 结论 蒙脱土 K10 负载三氯化铁作为氧化剂,氧化苯 偶姻制备苯偶酰,不仅具有氧化剂用量少,容易制 备,产物收率高的特点。而且克服了三氯化铁与水 形成胶体给后处理带来的不便,操作简便,污染小, 但在溶剂中反应,反应活性较低。反应时应尽量延 长反应时间以取得更高的产率。另外可以采用微波 辐射下加速氧化反应,也可以考虑无溶剂固相转氧 化反应。 参考文献: [1] 韩雪,郭亚军,吴伟. 负载型 Lewis 酸催化剂的制备与 应用进展[J].石油化工,2006,35(1) :88-93. [2] 周春晖,蔡晔,罗锡平,等. 蒙脱土负载型固体酸催化 剂的烷基化性能与结构研究[J].高校化学工程学报, 2003,17(1) :55-58. [3] 姜文凤,袁履冰. 新负载型试剂在有机合成反应中的 应用[J].大学化学,2000,15(6) :26-29. [4] 蔡哲斌,石振贵. Fe2O3 /Al2O3 催化氧化苯偶姻制备苯 偶酰[J].有机化学,2002,22(6) :446-449. [5] 李慧章,李同双,于涛,等. 微波辐射下苯偶姻的干法 氧化反应[J].有机化学,1998,18(2) :180-449. (上接第 458 页) H2PO2 - + Cu2 + + 3OH - = Cu + HPO3 2 - + 2H2O (2) 反应式(2)能够实现是因为 Cu2 + + 2e = Cu φ = 0. 34 V H2PO - 2 + 3OH - = HPO3 2 - + 2H2O + 2e φ = - 1. 57 V 3 结论 本文主要研究并论证了以次磷酸钠作为还原 剂在塑料表面进行化学镀铜是可行的,且得到了化 学镀铜液的最佳条件为:硫酸铜浓度为 20 g /L,酒石 酸钾钠浓度为 15 g /L,次磷酸钠浓度为 30 g /L,镀液 的 pH为 11,温度 65 ℃。但就塑料表面镀层的各种 性能仍需进一步的研究。 参考文献: [1] 严钦元,方景礼. 塑料电镀[M]. 重庆:重庆出版社, 1987:122. [2] 刘仁志. 非金属电镀与精饰———技术与实践[M]. 北 京:化学工业出版社,2006:223. [3] 杨防祖,杨斌,黄令,等.次磷酸钠和甲醛为还原剂的化 学镀铜工艺对比[J].电镀与精饰,2008,30(8) :12-15. [4] 余晓皎,张洵亚,范薇,等. ABS 塑料化学镀铜工艺[J] 电镀与涂饰,2006,26(5) :10-12. [5] 匡新谋,郑长征,杨红智,等. ABS塑料化学镀铜工艺的 研究[J].西安工程大学学报,2006,23(1) :31-34. [6] Zhao Hui,Huang Zhanghong,Cui Jianzhong. Electroless plating of copper on AZ31 magnesium alloy substrates [J]. Microelectronic Engineering,2008,85:253-258. 164
本文档为【次磷酸钠化学镀铜工艺的研究】,请使用软件OFFICE或WPS软件打开。作品中的文字与图均可以修改和编辑, 图片更改请在作品中右键图片并更换,文字修改请直接点击文字进行修改,也可以新增和删除文档中的内容。
该文档来自用户分享,如有侵权行为请发邮件ishare@vip.sina.com联系网站客服,我们会及时删除。
[版权声明] 本站所有资料为用户分享产生,若发现您的权利被侵害,请联系客服邮件isharekefu@iask.cn,我们尽快处理。
本作品所展示的图片、画像、字体、音乐的版权可能需版权方额外授权,请谨慎使用。
网站提供的党政主题相关内容(国旗、国徽、党徽..)目的在于配合国家政策宣传,仅限个人学习分享使用,禁止用于任何广告和商用目的。
下载需要: 免费 已有0 人下载
最新资料
资料动态
专题动态
is_389379
暂无简介~
格式:pdf
大小:240KB
软件:PDF阅读器
页数:3
分类:生产制造
上传时间:2012-10-03
浏览量:55