双层硅外延片在大功率器件中的应用
第六图
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主要介绍了具有双层杂质浓度分布的硅外延片在改善或消除雪崩注入二次击穿、改善大电流特性以及改善高频特性等方面所起的重要
作用,并介绍了具体工艺方法。主要介绍了具有双层杂质浓度分布的硅外延片在改善或消除雪崩注入二次击穿、改善大电流特性以及
改善高频特性等方面所起的重要作用,并介绍了具体工艺方法。双层杂质浓度 硅外延片 大功率器件半导体技术谢夏云成都半导
体材料厂1998第六图书馆
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第六图书馆
双层硅外延片在大功率器件中的应用
谢夏云 ≥
A Use of the Double—decker Extension Silicon in
High Power Device
Xie Xiayun
Clu~ngdu Semiconductor.1'la~rial Factor>'r Chengdu 610072)
Abstract This paper briefly introduces the important function of the extension
silicon with double—decker impurity in improving
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