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接时的
面
电子器件的焊接 主要包含两个过程 ,一是焊料
的熔 化和再结 晶过程 .而另 一个则是焊料在 印刷
电路板焊 盘 (PCB Pad)界 面及元器件引脚(comPo—
nent lead)界 面上的冶金化学反应..
以焊料存 PCB焊 盘 的界 面反应 为例,当焊料
熔化后,界面 卜I的固液反应就开始 了。由于该反
应,焊料得以在焊盘 浸润并铺展,并形成冶金接
合从而实现界面连接 而反 应的产物 即为界 面上
形成连续 的金属间化合物(1 MC--Intermetallics.or
inter—metall c compounds) 当分析焊点时 ,一个重
要方面即是检查界面上二金属间化合物(IMC)是否形
成。⋯般来讲 .如果 IMC没有形成或没有连 续形
成,则说 明没有焊接好 ,可能形成虚焊 。反之 .如果
界面上形成了完整 、连续的金属间化合物.则说明
焊接质量可靠
金属间化合物的 ⋯般特点是熔点高,晶体结构
对称性低 ,因而 比较脆 所以 一方 而金属间化合物
的形成是焊接质量可靠的标志,但另一方面.如果
金属间化合物太厚则会对焊点可靠性产少不良影
响。界面金属间化合物的形成及其在焊点服役过
程中的演化极为复杂,与焊料 、被焊接界面材料 、
成分 、印制电路板焊盘
表
关于同志近三年现实表现材料材料类招标技术评分表图表与交易pdf视力表打印pdf用图表说话 pdf
面涂层 、焊接手段 、焊接
工艺参数等密切相关.、对于 PBSn共晶焊料.230oC
峰值温度回流焊接 (reflow soldering),通常形成的
IMC典型厚度在 1I·~3urn,可 以很容易用光学显微
镜进行观察和分析。相对而言,波峰焊 f~VttVe sol—
dering)由于焊接时间短 ,形成的 IMC一般 比较薄,
常为 1tim左右或是亚微米,采用光学显微镜观察
比较困难,甚至使用 SEM也不易识别。由于 Ni与
焊锡的反应速度慢于 cI 和焊锡,因而 Nj焊盘上形
成的 IMC一般 比同样条件下 CI 焊盘上形成 的
IMC要薄,、对于铜焊盘和 PbSn焊料.新鲜铜表面或
使用 OSP涂层 的铜 焊盘 上的 IMC 一般比 HASI 涂
层铜 焊盘下形 成的 IMC更厚 高铅 焊料在铜焊盘
上通常形成 Cu3SI1 IMC而共 晶焊料 则一般形成
cu6sn5的 IMC。有时在 Cu6Sn5下面还可以观察到
一 层很薄的 Cu3Sn的 IMC
金属间化合物的厚度通常可以直接采用金相微
切片制备、然后使用高倍率光学显微镜或扫描电
子显微镜进行观察。可以使用图像处理软件来估
算 IMC的平均厚度 使用电子能谱(EDX)还可以
半定量分析 IMC的成分。结合相图知识和经验、可
以判定 1MC的类 型。
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图 1为 一典 型 CuAgCu无铅 焊料 在 Cu/OSP界
面上形 成的界面金属 间化合物形貌 其中界面 l_
连 续 层 为 Cu6Sn5而 焊 料 中 的 长 针 状 IMC 为
Ag3Sn。
对金相微切片制备的样品进行进一步腐蚀.可
以观察 IMC的三维形貌。图 2为取之于文献的经
过腐蚀后的金属间化合物形貌 从该图叮见.金相
微切片 中观察到的针状 IMC实际 f 有 口I能成 为板
块状
完全腐蚀掉界面上的焊料.腐蚀观察板块状
Ag3Sn金属间化合物.则可以使用扫描电 产显微镜
直接观察界面进行局部成分分析 图 3为一典型
分析实例.
CJPC 中国电子学会生产技术分会协助出版
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图 . 金属间化合物的扫描电子显微镜观察
和电子能谱分析
对腐蚀出来的 IMC进行进一步 x射线衍射(x
ray diffraction)分析,可以直接获得晶体结构信息,
确认 IMC类型,如到底是 Cu6Sn5还是 Cu3Sn:分析
不同晶体衍射面的相对强度还可判断金属间化合
物的生长是否存在择优取向,必要时还可以通过 x
射线衍射直接测量金属间化合物的点阵常数。图4
为典型 Cu6Sn5相的 x射线衍射图谱。
IMC的形貌及变化极为复杂。以共晶SnPb焊料
在 Cu焊盘或 Cu/OSP焊盘上的焊接为例 ,一般焊
接后形成的 IMC为贝壳状(scallop type),而在使用
过程 中或温度应力下逐步转变 为平面形 (planar
type)并不断变厚。长大一般为扩散过程。
典型生长速度为 50~C下 ,1年约长大 5um~
lOum。
长时间温度应力下 IMC长大还常常伴随 Kirk.
endall效应的发生,即由于 Cu和 Sn在 IMC中的扩
散系数不同导致 IMC内部或者界面上发生孔洞聚
积,导致焊点强度及可靠性的下降。
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图4 Cu6Sn5金属问化合物的 X射线衍射图谱
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图5a为一典型焊接后的原始 IMC形貌,而图
5b则 为 1500周一40 一 125℃温度 冲击后 IMC的
变化以及由于 Kirkendall效应引起的空洞聚集
Ni为另一种常用焊盘镀层材料(化学 NiAu或
电镀 AuNi)。其中 Au层的作用主要为保护 i层免
遭过度氧化。当焊料熔 化时 ,由于 Au在焊料 中的
溶解速度很快 ,因而 All瞬间扩散进入熔 融焊料 .
界面上 Ni和焊锡 发生反应形 成 Ni/Sn的 1MC 典
型 Ni/Sn的IMC为絮状,成分为 Ni3Sn3。必须指出.
如果 Au层厚 度太厚 (针 对电镀 Ni/Au),则在使 用
过程中,弥散在焊料中的 Au会扩散回到 Ni/Sn界
面附近 ,形成带状 (NiAu)Sn4IMC。该 IMC在界面上
的富集常常直接导致著名的金脆失效
另外一种鲜为人知的现象为电 焊接过程中
的界面偶合现象,即 PCB焊盘界面上的反应不但
与本界面有关,同时还与器件引脚材料及涂层有
关。如焊盘上为 NiAu而器件引脚为铜金属时,器
件端的铜常在焊接过程中扩散至 Nj/Sn界面从而
导致界面上形成 (NiCu)/Sn三元金属间化合物。
以下模拟试验可以清除地说明该过程 上界面
使用 HASL涂层 的覆铜板铜 层 ,用来模拟器件 引
脚.而下界面为 NiAu铜焊盘 通过 一简单模具实
现不同位置的焊料厚度变化,焊接温度峰值为
230~C。然后采用金相微切片及扫描电子显微镜和
电子能谱分析不同焊料厚度下界面上的金属间化
合物的类型及成分。
结果可以清楚地看到, 焊料厚度较大时,
下界面无偶合现象产生,界面金属『日J化合物 为
Ni3Sn4。当厚度_F降至 1000微米定右,圩始在 IMC
中发现 cu元素。【Cu+Ni J3/ISn4]原 F比 3/4,显然
IMC晶体结构仍然为 Ni3Sn4但 是 Ni被 Cu部分替
代 .形成了固溶体;当厚度下降至 500微米左右,
fNiCu)3Sn4IMC转变为(NiNi)3Sn4IMC(固熔体) 显
然,两界面之间产生了偶合 焊料厚度越小.由
界面扩散过来的 cu就越多 在实际焊接过程中,
典型的焊点高度为数十或最多 l00多微米.因而这
种界面偶合焊料厚度越小 ,由上界面扩散过来的
cu就越多,因而这种界面偶合现象其实 十 分普遍
在产业中 ,已有形成二元(CuNi)Sn的 IMC导致焊点
大规模失效的案例。
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及工艺技术"培训班
通 知
培训 时间:2005年 9月 1 1日至 1 3 Et
报到地点:南京后标营 35号 851 1研究所招待所
培训内容:
报到时间 :2005年 9月 10日全天
培训地点:南京后标营 35号 851 1研究所招待所
1.电子组装工艺缺陷分析及排除措施 2.无铅焊接过渡兼容性问题
3.无铅焊料焊膏的选择 4.铅与有铅——铅污染的问题
5.无铅焊接的镀层化学镀镍金和浸锡
6.无铅焊接的工艺(a、印刷;b。再流焊;c.湿敏感;d、热敏感 ) 7、无铅焊接缺陷分析
8.无铅化装配焊接新标准,以 IPC—A一610D电子组装的验收条件和(IPC—J—STD一001D电气与电f
装配焊接要求》为基础 ,介绍以上两标准的重要内容..
培训费用:本培训班以提高生产技术 、培训专业人才为目的,不追求盈利、不用国家拨款 、不要求单位
赞助 ,以收取合理费用支付教师讲课和其它开支。根据前几期培训班收支情况 ,结合深圳特区的实际
情况确定为:参加全部课程培训的学员培训费为 1700元(含中餐、包括教材费),时间为一天的专题课
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